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一种基于局部压印制备光波导的方法及光波导.pdfVIP

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  • 2024-03-02 发布于四川
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一种基于局部压印制备光波导的方法及光波导.pdf

    本发明公开了一种基于局部压印制备光波导的方法及光波导；制备方法包括：在透明基板上依次执行至少两个光栅区压印步骤，以依次在透明基板的目标区域中制备形成目标光栅结构；不同光栅区压印步骤对应制备的目标光栅结构的高度不同；光栅区压印步骤包括：在透明基板上形成胶层，胶层至少覆盖当前的光栅区压印步骤对应的目标区域；利用一个软质模板，在目标区域的胶层上压印形成目标光栅结构；对目标区域的目标光栅结构进行固化；剥离软质模板；去除目标区域之外未固化的胶层。通过上述方法，实现透明基底上各个光栅区的残胶量均匀或者残胶量

    (19)国家知识产权局

    (12)发明专利申请

    (10)申请公布号CN117631144A

    (43)申请公布日2024.03.01

    (21)申请号202311874270.0G02B6/12(2006.01)

    (22)申请日2023.12.2

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