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微细加工光学技术国家重点实验室

微细加工光学技术国家重点实验室建立于1991年11月，是中科院成都分院第一个国家重点实验室，1993年12月经中科院批准对外开放，1996年7月顺利通过国家验收，1999年进入中科院知识创新工程试点。实验室认真贯彻执行“开放、流动、联合、竞争”的运行机制，在科研工作、人才培养、开放流

动、学术交流等方面都取得了可喜的成绩。微细加工光学技术国家重点实验室自建立以来积极开展各项学术交流与合作。与英国卢瑟福国家实验室微结构中心开展合作研究，双方派人互访并开展相移掩模、光学邻近效应、全息光刻等多方面的划作研究。与美国加利福尼亚大学Irvine分校声光电光磁光（研究所）进行学术交流与合作，多次访问，派人学习，开展合作研究，并在全息微光刻等方面进一步开展合作研究。与中科院微电子中心在掩模制作、相移掩

模、深紫外、极紫外和软X射线光刻等领域开展合作研究。与四川大学物理系共同培养博士生，共同申请自然科学基金项目、共同开展课题研究和经常性的学术交流活动，在微光学、微电子（光学邻近效应校正等）领域开展了持续的学术交流与合作研究。与电子科技大学微电子室共同开展软X射线接近式光刻研究，取得显著成果。与中科院上海技术物理所在微光学元件研究与应用方面开展了卓有成效的合作研究。实验室的发展总目标是：面向微光学、折衍混合光学和微电子光学技术国家战略需求，面向信息领域的国际高科技前沿，将实验室建设成为微光学、微电子光学技术创新的国际一流研究基地和培养高水平研发人才的基地。

实验室的学科方向为微细加工光学技术基础与应用研究，研究领域包括：

（一）微电子现代装备的微细加工光学技术基础与方法研究；（二）微细光刻技术中现代光机电综合技术基础与智能化方法研究；（三）微细加工光学技术应用研究（微光学、微机械理论、元件的设计、制作及应用研究）。实验室内分为三个研究小组：微电子光学研究小组和微光学机械系统研究小组，微电子现代装备技术研究小组，实行课题负责制。为了开展具有世界先进水平的前沿创新研究和完成国民经济急需的攻关课题，微细加工光学技术国家重点实验室已经建立了六个子实验室：科学计算与仿真；准分子激光光刻；激光直写；精密定位与对准；深紫外光学；微光学工艺与精密测试。根据中科院知识创新的要求，实验室主要研究内容包括：(1)微光学研究及应用：微光学(包括衍射光学)的相关理论与优化设计方法，微列阵光学元件制作的新方法和新工艺、深浮雕微细结构的成形方法与测试技术，建立具有自主知识产权的微光学技术平台，促进成果转化，实现用于信息安全等领域的多种微光学小系统；(2)折衍混合光学技术和系统：研究新型折衍混合光学系统设计与优化，解决轻量化光学系统在空间的应用及空间环境中的适应性等问题，研制出高性能、轻量化星敏感器光学系统与整机。拓宽折衍混合光学成像系统在航天领域的应用，满足国家需求，完成航天领域国家重要任务。(3)微电子光学关键技术原理和方法研究：开展深亚微米光刻关键技术原理和方法研究，包括X射线光刻、准分子光刻、原子力光刻等。突破0.07mm—0.18mm光刻关键技术，进一步探索光刻领域高技术前沿，研究用波前工程方法提高分辨率的实用化问题。为我国科技部部署的微电子装备产业跨越式发展(0.1mm)提供技术支撑。

微细加工光学技术国家重点实验室自建立以来开展了110多项课题研究，包括国家攻关项目，中科院重大项目和重点项目，国家自然科学基金项目和国家863高技术项目等。大部分项目属于本学科领域前沿研究，部分重大、重点项目为解决国民经济建设急需的重大攻关课题。建室以来，获得国家重大科技装备成果奖一等奖1项，国家科技进步奖三等奖2项，中国科学院科技进步奖一等奖2项，二等奖3项，三等奖2项，中科院自然科学奖三等奖1项，授权专利9件，受理专利10件（其中发明专利3件）。在国内外核心科技刊物上发表学术论文近300篇，专（合）著2本，论文集3集。微细加工光学技术国家重点实验室与微电子工程总体研究室合作，在我国成功地完成了大数值孔径、高分辨率0.7-0.8微米分步重复投影光刻机和i线光刻物镜，达到国际90年代先进水平，填补了国内空白，为打破外国禁运做出了突出贡献；完成的i线高均匀光学照明系统研究，在100毫米X100毫米视场内照明不均匀性优于±2%，属国内首创；在国内首先开展了提高光刻分辨率的相移掩模技术研究，达到

0.18微米线宽尺寸；完成的衍射微透镜阵列实用化研究，使我国衍射光学技术进入实用阶段并跻身国际先进行列，该项研究形成的小型哈特曼波前传感器，其波前探测灵敏度指标达到国际先进水平；将微透镜列阵与180