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用于处理基板的设备及用于处理基板的方法.pdfVIP

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  • 2024-03-09 发布于四川
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用于处理基板的设备及用于处理基板的方法.pdf

    本发明提供一种基板处理设备。基板处理设备包括用于支撑基板并施加电力的支撑板；置放于支撑板的上以面对支撑板的等离子体控制单元；及定位成围绕等离子体控制单元的顶部电极单元，且其中等离子体控制单元包括：定位成面对安装于支撑板上的基板的顶表面的介电板；及定位于介电板的上的金属板，且金属板电连接至顶部电极单元。

    (19)国家知识产权局

    (12)发明专利申请

    (10)申请公布号CN117672798A

    (43)申请公布日2024.03.08

    (21)申请号202311156221.3

    (22)申请日2023.09.07

    (30)优先权数据

    10-2022-0113707

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