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一种单叶式半导体基板清洗装置及清洗方法.pdfVIP

一种单叶式半导体基板清洗装置及清洗方法.pdf

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    本发明公开了一种单叶式半导体基板清洗装置，包括工艺腔体，工艺腔体上设置有用于转移半导体基板的闸阀，工艺腔体内设置有用于喷射液体的喷嘴、用于喷射气体的淋浴头和用于固定半导体基板的旋转卡盘，旋转卡盘由一电机驱动转动；工艺腔体内设置有用于承接废液的接收器，接收器上设置有延伸至工艺腔体外部的废液管道，废液管道上设置有废液阀；工艺腔体与一水环真空泵相连，水环真空泵用于调节工艺腔体内的气压，工艺腔体与水环真空泵之间的管道上设置有真空开闭阀和节流阀，水环真空泵与一气液分离罐相连。本发明在真空状态下对旋转的半导

    (19)国家知识产权局

    (12)发明专利申请

    (10)申请公布号CN117672926A

    (43)申请公布日2024.03.08

    (21)申请号202410118276.3

    (22)申请日2024.01.29

    (71)申请人东领科技装备有限公司

    地址21

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