金属薄膜的制备与工艺争论
制备薄膜材料的物理方法很多,但大致可分为二大类,化学方法〔包括电化学方法〕和物理方法。化学方法包括:化学气相沉积法〔CVD〕、液相生成法、氧化法、集中法、电镀法等。物理方法包括:真空热蒸发法、直流溅射、磁控溅射法、射频溅射、脉冲激光沉积、分子束外延生长法等薄膜的制备方法。本试验承受直流溅射法、真空热蒸发和磁控溅射法制备金属薄膜。
【试验目的】
学习溅射镀膜的方法,初步了解薄膜形成的机理;
了解真空系统的构造和真空测量技术的根底学问,把握机械泵、集中泵的工作原理及操作规程;
学习直流溅射制备金属薄膜的原理和方法;
学习真空热蒸发和磁控溅射法制备金属薄膜的原理和方法
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