原创力文档- 1、本文档内容版权归属内容提供方，所产生的收益全部归内容提供方所有。如果您对本文有版权争议，可选择认领，认领后既往收益都归您。。
- 2、本文档由用户上传，本站不保证质量和数量令人满意，可能有诸多瑕疵，付费之前，请仔细先通过免费阅读内容等途径辨别内容交易风险。如存在严重挂羊头卖狗肉之情形，可联系本站下载客服投诉处理。
- 3、文档侵权举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
- 4、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
- 5、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
- 6、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
- 7、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次， 网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档
查看更多
本申请公开了一种单晶炉液口距的控制方法、存储介质和电子设备，所述方法包括获取当前溶液质量、当前熔液密度和坩埚尺寸数据，并根据获得的当前熔液质量、当前熔液密度和坩埚尺寸数据确定熔液深度，再根据熔液深度确定重量液口距，最后根据重量液口距对坩埚升降速度进行控制，实现了对单晶炉液口距的测量和控制。只要具备重量传感器及标准坩埚尺寸的单晶炉都可使用本技术方案测量液口距，适用范围广，检测成本低，准确性与稳定性高，即使是坩埚使用后变形，本技术方案中的公式算法依旧可以准确得出结果；并且根据液口距对坩埚升降速度进行
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117779176A
(43)申请公布日2024.03.29
(21)申请号202311803232.6
(22)申请日2023.12.25
(71)申请人万华化学集团电子材料有限公司
地址
文档评论（0）