钢的回火转变及合金时效.pptVIP

位错的影响位错线是扩散的通道，加速其迁移，溶质原子常在位错线上偏聚，此处容易满足新相成分需求按形核长大机制，脱溶的过渡相和平衡相可以在位错上优先形核，造成非均匀析出。位错密度大的过饱和固溶体形核率大，脱溶物初期尺寸细小。第96页,共109页，2024年2月25日，星期天晶界的影响晶界处是空位阱，在晶界附近形成无脱溶区，随着时间的延长及温度升高，脱溶相也会在无脱溶区析出。第97页,共109页，2024年2月25日，星期天脱溶沉淀后的显微组织一、脱溶沉淀类型局部脱溶连续脱溶不连续脱溶第98页,共109页，2024年2月25日，星期天一)局部脱溶(晶界沉淀)特征：由不均匀形核引起、在晶界、亚晶界、孪晶界、滑移线等缺陷处形核分布：析出相沿滑移线和位错线析出时呈直线排列，与魏氏组织相近(但不是W)第99页,共109页，2024年2月25日，星期天二)连续脱溶(晶内沉淀)特征：新相析出时是均匀形核分布：均匀分布在基体中（与晶界、位错无关）。共格关系：析出相与母相共格，界面能较低析出相形态：片状或针状，沿一定惯习面析出，形成W。随析出进行，共格关系破坏，析出相球化，W组织特征消失。第100页,共109页，2024年2月25日，星期天三)不连续脱溶(珠光体型沉淀)形核：沿晶界不均匀形核，逐步向晶内扩散晶核与