薄膜材料性能表征方法介绍.pptVIP

有机电致发光薄膜OLED：平板显示氧化物半导体敏感薄膜SnO2,TiO2,Fe3O4:高灵敏度气体传感器力敏、磁敏金属薄膜FeSiB：微压力、震动、力矩、速度、加速度传感器光催化薄膜TiO2：环保材料光学薄膜：智能建筑材料，装饰照明宽禁带半导体薄膜GaN,ZnO,SiC：短波长器件、大功率CMOS器件超导薄膜YBCO,MgB第64页,共70页，2024年2月25日，星期天第六节新型光电发射薄膜Ag-BaOAg-BaO薄膜属于金属纳米粒子埋藏于半导体中构成的复合介质薄膜，具超快光电时间响应。特点：可以经历暴露大气的过程，而在真空中恢复光电发射；在激光作用下的多光子光电发射使其可以应用于近红外波长的超短光脉冲检测中。Ag-BaO薄膜可在一般的高真空系统中制备，如图。真空蒸发沉积的方法如下：（1）在高真空条件下（3×10-4Pa）在玻璃基底上淀积一定厚度的Ba膜；（2）通入压强为10Pa的氧气使Ba膜氧化成BaO薄膜；（3）恢复高真空度后，室温下蒸一定量的Ag，使基淀积在BaO薄膜中，然后加温280°C、退火20min；第65页,共70页，2024年2月25日，星期天1，6-导轨2-Ba源3-样品管泡4-正电极5-Ag源7-机械泵8-扩散泵9-O2源10-薄膜11-负电极（4）再蒸积少量超额Ba，提高薄膜的光电积分灵敏度；（5）可以单层制备薄膜，也可以多层制备薄膜，即可以重复以上步骤；（6）在光学瞬态响应测试中，为提高样品的稳定性，将制备的样品暴露大气，在100°C大气环境下退火2h。这样做成的薄膜样品，薄膜厚度可为50nm到300nm。第66页,共70页，2024年2月25日，星期天学习——基础思考——关键实践——根本关联——灵魂中国激光照排之父、北大方正创始人、北京大学已故王选院士首次表述华中科技大学前校长杨叔子院士提炼第67页,共70页，2024年2月25日，星期天学习——源(Souce)思考——思想火花碰撞------等离子体(Plasma)实践——衬底(Substrate)关联——真空系统(Chamber)创新——薄膜奇葩(Film)!第68页,共70页，2024年2月25日，星期天本课程结束谢谢第69页,共70页，2024年2月25日，星期天感谢大家观看第70页,共70页，2024年2月25日，星期天第32页,共70页，2024年2月25日，星期天五、卢瑟福背散射技术（RBS）具有较高能量而质量较小的离子在与物质碰撞的过程中会发生散射现象，这一相应的过程被称为卢瑟福散射。利用这一物理现象作为探测、分析薄膜材料的化学成分的分布的方法，被称为卢瑟福背散射技术。如图(a)所示，由于离子能量很高而质量又很小，因而它将具有一定的对物质的穿透能力，并且不会造成物质本身的溅射。在穿透物质的同时，高能离子与物质间的相互作用可以被分为不同的两种情况：（1）高能离子在远离原子核的地方通过，并以不断激发原子周围的电子的方式消耗自身的能量。（2）当离子的运动轨迹接近了物质的原子核时，它与后者之间将发生经典的弹性碰撞过程。下图是卢瑟福背散射分析所使用的装置的示意图。返回第33页,共70页，2024年2月25日，星期天SolidStateLaboratoryDepartmentofElectronicEngineering,CUHK2MVTandemAccelerator第34页,共70页，2024年2月25日，星期天2MVTandemAcceleratorSolidStateLaboratoryDepartmentofElectronicEngineering,CUHKAnalysermagnetIonSourcesAcceleratortubeElectrostaticquadrupletriplelensExternalPIXEirradiationchamberIon-implantationchamberMulti-purposeirradiationchamber第35页,共70页，2024年2月25日，星期天IncidentionBackscatteredprimaryionRBS/C-RBSBound(Auger)electronsAESX-r