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本申请公开了一种空气桥及提高空气桥稳定性的方法，属于量子计算机制造领域。提高空气桥稳定性的方法包括：获得用于制造空气桥的第一掩膜；加热第一掩膜以获得第二掩膜；通过第二掩膜依次执行沉积和图案化制得空气桥；空气桥的桥面和桥墩之间具有由所述曲线状弯曲的轮廓限定的弯曲分离迹线。通过上述方式制造空气桥能够使得空气桥的结构更稳定，不容易发生桥面塌陷的问题。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117835801A
(43)申请公布日2024.04.05
(21)申请号202311698373.6
(22)申请日2023.12.11
(71)申请人本源量子计算科技（合肥）股份有限
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