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一种用于向样品投射带电粒子多射束的方法，包括：使用控制透镜阵列来操纵带电粒子多射束的相应子射束，该控制透镜阵列包括用于相应子射束的多个控制透镜；控制控制透镜阵列以操纵子射束，使得子射束由射束成形孔径阵列的相应孔径成形，使得小于阈值电流的每个子射束的带电粒子通过射束成形孔径阵列的相应孔径，控制透镜阵列的下游包括用于相应子射束的多个孔径；以及控制控制透镜阵列以操纵子射束，使得至少为阈值电流的子射束的至少一部分通过射束成形孔径阵列的相应孔径。
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117836892A
(43)申请公布日2024.04.05
(21)申请号202280054925.7(74)专利代理机构北京市金杜律师事务所
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