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一种OPC修正方法.pdfVIP

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  • 2024-04-10 发布于四川
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一种OPC修正方法.pdf

    本发明提供了一种OPC修正方法，并具体提出了一种在OPC修正方法中改善掩膜版上金属层的线条图形修正结果的新型转角结构，并基于该新型转角结构提出了一种在金属层上的具有凸角转角的线条图形的OPC修正过程中，直接将掩膜版上的线条图形的凸角转角的形状从容易发生转角圆化效应的直角调整成不易发生转角圆化效应的其他形状的OPC修正方法，从而实现了有效降低位于金属层上的具有凸角转角的线条图形发生转角圆化效应的概率，即保证了利用该修正后的掩膜版在实际硅片上所形成的金属线结构符合设计要求，同时增大了该形成的位于上下

    (19)国家知识产权局

    (12)发明专利申请

    (10)申请公布号CN117855039A

    (43)申请公布日2024.04.09

    (21)申请号202410259334.4

    (22)申请日2024.03.07

    (71)申请人合肥晶合集成电路股份有限公司

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