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本发明公开了一种磁光调制器件和入射可见光的大相位差磁光调制方法，该磁光调制器件包括磁场发生器、透明主调制部件和辅助调制部件，磁场发生器设置为磁场方向与入射可见光光路垂直；透明主调制部件设于磁场内，其内部填充磁性二维材料分散液，其中的磁性二维材料光学带隙在2.0eV以上，饱和磁化强度1emu/g以上，径厚比102以上；辅助调制部件包括分设于透明主调制部件的相对两侧且位于入射可见光光路上的第一偏振片和第二辅调制件，第二辅调制件为偏振检测器或第二偏振片，第二偏振片与第一偏振片的偏振方向正交。该磁光调制
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN111913310A
(43)申请公布日2020.11.10
(21)申请号202010687531.8
(22)申请日2020.07.16
(71)申请人清华-伯克利深圳学院筹备办公室
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