光学临近校正(OPC) 软件，全球前五强生产商排名及市场份额.pdfVIP

全球市场研究报告

光学临近校正(OPC)软件全球市场总体规模

光学邻近校正（OpticalProximityCorrection,OPC）是计算光刻中最重要一环，应用于光刻掩膜板优化，是

保证硅片最终图像不失真的必需软件，也是决定产品良率的最重要环节。反演光刻技术（InverseLithography

Technology,ILT）也叫逆向光刻技术、反向光刻技术，是新一代的计算光刻技术，是以硅片上要实现的图形

为目标，反演计算出掩模版上所需要图形的算法。目前我国企业东方晶源已采用GPU加速计算及全芯片ILT

技术进行掩模优化的解决方案，通过深度学习和大数据对光刻制程精确建模，优化工艺窗口，确保良率。

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图.光学临近校正(OPC)软件，全球市场总体规模

全球市场规模（百万美元）

781

323

2773.9%

201820222029

如上图表/数据，摘自QYResearch最新报告“全球光学临近校正(OPC)软件市场研究报告2023-2029.

据QYResearch调研团队最新报告“全球光学临近校正(OPC)软件市场报告2023-2029”显示，预计2029

年全球光学临近校正(OPC)软件市场规模将达到7.8亿美元，未来几年年复合增长率CAGR为14.1%。

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图.全球光学临近校正(OPC)软件市场前五强生产商排名及市场占有率（基于2022年调研数据；目前

最新数据以本公司最新调研数据为准）

全球市场主要企业排名

Brion(ASML)

KLA

Mentor(Simens)

Synopsys

Samsung

AnchorSemiconductor

GenISysGMBH

武汉宇微光学

墨研计算

深圳国微芯

东方晶源

华润微电子

如上图表/数据，摘自QYResearch报告“全球光学临近校正(OPC)软件市场研究报告2023-2029，排名基于2022数据。目前最新数据，

以本公司最新调研数据为准。

根据QYResearch头部企业研究中心调研，全球范围内光学临近校正(OPC)软件生产商主要包括Brion

(ASML)、KLA、Mentor(Simens)、Synopsys、Samsung、AnchorSemiconductor、GenISysGMBH、武汉宇

微光学、墨研计算、深圳国微芯等。

2022年，全球前五大厂商占有大约82.3%的市场份额，市场高度集中。目前，全球核心厂商主要分布在欧

洲。

随着大规模集成电路技术的发展，对光刻分辨率的要求也越来越高。分辨率增强技术随之变得愈发重要。在

分辨率增强技术发展过程中，OPC等计算光刻软件的重要性越来越突出，在90nm甚至180nm以下芯片的

光刻制造前，都必须采用OPC软件进行优化。没有OPC，所有IC制造厂商将失去将芯片设计转化为芯片产

品的能力，而采用相移掩模技术和光学邻近效应修正技术相结合可以使193nm波长Ar