- 1、本文档共7页,可阅读全部内容。
- 2、原创力文档(book118)网站文档一经付费(服务费),不意味着购买了该文档的版权,仅供个人/单位学习、研究之用,不得用于商业用途,未经授权,严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等,侵权必究。
- 3、本站所有内容均由合作方或网友上传,本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺!文档内容仅供研究参考,付费前请自行鉴别。如您付费,意味着您自己接受本站规则且自行承担风险,本站不退款、不进行额外附加服务;查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档,您可以点击 这里二次下载。
- 4、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等,请点击“版权申诉”(推荐),也可以打举报电话:400-050-0827(电话支持时间:9:00-18:30)。
中华人民共和国电子行业标准
FL6132SJ21156-2016
微波组件Q桥制作和安装工艺技术要求
TechnicalrequirementsforfabricationandinstallationofQbridgeof
microwaveassembly
SJ21156-2016
目IJ~
本标准由中国电子科技集团公司提出。
本标准由工业和信息化部电子第四研究院归口。
本标准起草单位:中国电子科技集团公司第十三研究所。
本标准主要起草人:赵静、李泊、李永~主洁、李琳、陈海蓉、魏爱新。
SJ21156-2016
微波组件Q桥制作和安装工艺技术要求
1范围
本标准规定了微波组件产品中Q桥的制作、手工焊接和检验要求。
本标准适用于微波组件中Q桥的制作、手工焊接和检验。
2规范性引用文件
下列文件中的条主勤、
饲|用文件,其随后所有的
修改单(不包含勘、却
三准达成协议的各方研究
-、标准。
3一般要、
3.1人员
3.2环境
3.2.1
3.2.2工作间的相对湿度应控制在30%~70%。
3.2.3工作间应整沽,洁净度应不低于GB/T25915.1-2010中IS08级的规定。产品内部有裸芯片时,
洁净度应不低于GB/T25915.1-2010中IS07级的规定。
SJ21156-2016
3.3.2手工焊接工位应有排烟装置。
3.3.3操作过程中,禁止裸手触摸温控烙铁尖部和加热平台的加热面,防止被烫伤。
3.3.4清洗操作使用易挥发有机溶剂时,工作间应通风良好。
3.4材料
3.4.1原材料
3.4.1.1Q桥的原材料一般采用无氧铜或者镰宿经过表面镀覆金或镰-金后裁剪制成的镀金铜带或者
镀金镇带。
3.4.1.2无氧铜带的厚度一般为0.04mm~0.08mm;镇锚的厚度一般为0.06mm~0.08mm。
3.4.1.3铜带或者镰锚镀金层厚度应为0.3µm~0.8口m。
3.4.2焊料
焊料使用符合GB/T3131中规定的焊料,优先选用S-Sn63PbAA焊料,常用焊料为锡铅焊料
(Sn63Pb37,熔点为183℃),也可选用S-Sn63PbAgA焊料,常用焊料为锡铅银焊料(Sn62Pb36Ag2,
熔点为179℃)。
3.4.3#旱齐IJ
采用焊剂芯焊料或液态焊剂时,应符合GB/T9491中规定的R型或RMA型焊剂。
3.4.4;青洗剂
用于清除油脂、污物、焊剂残留的清洗剂应采用非导电和非腐蚀性物质。常用的清洗剂有无水乙醇、
异丙醇等。
3.4.5其它
无纺布、医用脱脂等用于蘸取清洗剂对油污、焊剂残留等进行清洁。
3.5设备与工艺装备
3.5.1设备
所用工艺设备应周期性检验,在有效期内使用,常用的设备有:
a)温控加热平台:温度设置范围为常温~300℃;
b)温控防静电电烙铁或智能型防静电电烙铁:温度调节范围为200℃~420℃:
c)显微镜:7倍~45倍。
3.5.2工具
SJ21156-2016
4详细要求
4.1工艺流程
Q桥的制
您可能关注的文档
- SJ 21318-2018 真空高温烘箱通用规范.pdf
- SJ 21319-2018 涂胶设备工艺验证方法.pdf
- SJ 21320-2018 微组装湿法清洗设备工艺验证方法.pdf
- SJ 21324-2018 激光缝焊机通用规范.pdf
- SJ 21328-2018 金属外壳 熔封工艺技术要求.pdf
- SJ 21330-2018 金属外壳 装架工艺技术要求.pdf
- SJ 21331-2018 陶瓷外壳及金属外壳 金属零件热处理工艺技术要求.pdf
- SJ 21332-2018 陶瓷外壳及金属外壳 化学镀镍工艺技术要求.pdf
- SJ 21333-2018 陶瓷外壳及金属外壳 钎焊工艺技术要求.pdf
- SJ 21334-2018 陶瓷外壳及金属外壳 电镀镍工艺技术要求.pdf
文档评论(0)