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核反应截面与产额

目

1反应截面

录

2微分截面和角分布

3反应产额

1．反应截面

薄靶：入射粒子垂直通过靶时能量可以认为不变。

厚靶：单位面积靶上的靶核数为NNX。

sV

束流强度:即单位时间的入射粒子数为I。单位时间内

入射粒子与靶核发生的反应数N′应与I和N成正比，

s

令其比例系数为σ，则:N=IN

s

N



IN

s

单位时间发生的反应数

=

单位时间的入射粒子数单位面积的靶核数

σ称为反应截面或有效截面

N=IN

s

反应截面σ物理意义：一个入射粒子入射到单位面积内只含有一个靶核

的靶上所发生反应的概率。

σ是一个很小的量，大多数情形它要小于或等于原子核的横截面πR2，即

-242

≈10cm的数量级。

-242

因此，反应截面σ的单位通常采用10cm，称为“靶恩”，简称“靶”

，记作barn或b。它是非法定计量单位。

2

按国家标准规定，截面的法定计量单位是m。但国际上仍广泛使用b。

核反应截面相关的几个概念

(1)分截面

对应于每个反应道的截面，i表示产生某种反应的概率。

(2)总截面

各分截面之和，为总截面表示产生各种反应的总概率。

it

(3)激发曲线

截面随入射粒子能量的变化曲线

截面随入射粒子能量的变化关系称为激发函数。

用此函数画成的曲线称为激发曲线。

2334

H(d,n)He和H(d,n)He的激发曲线

2.微分截面和角分布

单位时间出射至θ→θ+dθ和φ→φ+dθ间

的立体角dΩ内的粒子数为dN’，则：

dNINd

s

dN=(,)INd