半导体制造技术智慧树知到期末考试答案章节答案2024年上海工程技术大学.docx

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半导体制造技术智慧树知到期末考试答案+章节答案2024年上海工程技术大学

硅中常见的缺陷形式（）。

答案:位错###点缺陷###层错

CVD过程中5种基本化学反应包括（）。

答案:光分解###高温分解（化学键断裂）###氧化反应###氧化还原反应###还原反应

世界上第一个晶体管的发明者（）并因此发明获得诺贝尔奖。

答案:肖克莱###巴丁###布拉顿

集成电路的发展趋势（）。

答案:芯片性能不断提高###芯片成本不断降低###芯片可靠性不断提高

扩散工艺的三个微观步骤包括（）。

答案:激活###预扩散###推进

下列哪些属于材料的物理属性（）。

答案:熔点###沸点###电阻率

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