PLD简介(最新整理版).pptxVIP

l物理成膜方法

l什么是脉冲激光沉积成膜

lPLD的优点

脉冲激光沉积成膜

lPLD的物理机制

lPLD的应用前景

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lPLD的缺点

a)热蒸发和电子束蒸发

b)溅射沉积

c)离子成膜方法

物理成膜方法

物理气相沉积方法

分子束外延成膜

脉冲激光沉积成膜(PLD)

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1960年，激光首次出现。自此以后，激光受到多方面应用，发展成为强效的工具。激光对物料加工的帮助，效果尤其显著。激光具有许多独特的性质，例如狭窄的频率带宽、相干性以及高能量密度。通常，光束的强度足以汽化最坚硬与最耐热的物料。再加上激光精确、可靠、具备良好的空间分辨能力(这些出色表现，所以得到功能薄膜、物料改造、物料表面加热处理、熔接，及微型图案等工业广泛使用。除此之外，多组分物质能够溶化，并沉积在底物上，形成化学计量薄膜。最后提及的这个激光应用技术，就是所谓的脉冲激光沉积(简称PLD)。

脉冲激光沉积成膜(PLD)

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脉冲激光束聚焦在固体靶的表面上。在表面大量吸收电磁辐射，导致靶物质快速蒸发。蒸发的物质由容易逃出与电离的物质组成。如果溶化作用在真空之下进行，蒸发的物质本身会实时在靶表面上形成光亮的等离子羽状物。简单来说，脉冲激光沉积PLD(PulsedLaserDeposition)就是脉冲激光光束聚焦在固体靶面上，激光超强的功率使得靶物质快速等离子化，然后溅镀到目标物上。

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Plusedlaser

基本过程

substrate

target

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PLD过程中产生的典型等离子羽状物。

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一.应用PLD非常方便，过程中须要控制的参数只有几个，例如激光能量通量与脉冲重复频率。二.与其它溅镀技术相比，利用PLD技术的靶体积细小。借着连续溶化混杂的靶，制造不同物质的多层膜，十分容易。

三.透过控制脉冲的数量，可以精密调节薄膜厚度至单原子层。

PLD的优点

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四.PLD最重要的特色，是沉积膜保留了靶的化学计量成分。这是由于脉冲激光照射，使靶表面的加热速率极高所致。这个原因导致靶的组分元素或化合物一致蒸发，无须理会个别的蒸发点。也由于溶化物质的高加热速率，晶体膜的激光沉积比其它薄膜生成技术，要求更低的衬底温度。因此，半导体与它下面的集成电路能够抑制热降解。

PLD的优点

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PLD的优点

五.由于激光光子能量很高，可溅射制备很多困难的镀层：如高温超导薄膜，陶瓷氧化物薄膜，多层金属薄膜等；PLD可以用来合成纳米管，纳米粉末等。

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一个是薄膜被溅污，或有微粒沉积在薄膜上。

引致溅污的物理机制包括：表面下的沸腾、冲击波反冲压力造成的液态层喷溅，以及层离。微粒的体积可能有几微米那么大。这些微粒非常阻碍随后膜层的形成，亦大大影响薄膜的导电特性。

PLD的缺点

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另一个是由于激光的绝热膨胀导致溶化核素分布角度狭窄，在靶表面形成等离子羽状物及凹痕。这些弊端削弱了PLD生产大面积均匀薄膜的用处，PLD因此未能在工业上大展身手。最近有人提出了补救措施，插入障板能够有效阻挡大微粒，转动靶与底物有助于形成较大的均匀薄膜。

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PLD的缺点

PLD的系统设备简单，相反，它的原理却是非常复杂的物理现象。它涉及高能量脉冲辐射冲击固体靶时，激光与物质之间的所有物理相互作用，亦包括等离子羽状物的形成，其后已熔化的物质通过等离子羽状物到达已加热的基片表面的转移，及最后的膜生成过程。

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PLD的物理机制

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1.激光辐射与靶的相互作用

2.熔化物质的动态

3.熔化物质在基片的沉积

4.薄膜在基片表面的成核