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SOI基SiOx柱光子晶体的研究开题报告

一、研究背景

随着信息技术的发展，光通信技术已成为当前高速通信的主要技术之一。而光子晶体是利用材料结果构成的光学波导和光子带隙的结晶体而实现的光子器件，具有优美的光学矩阵结构和独特的光学性能。所以在光通信领域中，光子晶体的研究和应用也越来越受到关注。

为了提高光子晶体的性能，目前的研究方向主要集中在材料的改进和结构的优化方面。其中，SOI基SiOx柱光子晶体是一种具有很高的潜力的新型光子晶体结构，其具有与传统三维光子晶体相比更好的光学性能，具有很高的应用前景。

二、研究对象和内容

本研究选择SOI基SiOx柱光子晶体为研究对象，目的是探究其光学性能和制备工艺。具体内容包括：

1.研究SOI基SiOx柱光子晶体的结构和光学性能，比较其与传统三维光子晶体的相似之处和不同之处。

2.研究SOI基SiOx柱光子晶体的制备工艺，包括制备材料、制备工艺、表征方法等。

3.利用自行制备的SOI基SiOx柱光子晶体设计并制备相应的光学器件，并测试其性能。

4.探究SOI基SiOx柱光子晶体在光通信领域中的应用前景，并提出进一步研究的方向。

三、研究意义

本研究对于提高光子晶体的性能，推动光通信技术的发展具有重要的意义。同时，SOI基SiOx柱光子晶体作为一种新型光子晶体结构，其研究有助于深入了解光子晶体的结构和性能，为进一步开发新型光子器件提供了重要的思路和基础。