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设备管道清洗方案

编制说明

依据业主和EPC(信息产业电子第十一设计研讨院)技术交底的要求：分解、精馏提纯、恢复整理、尾气回收、氯硅烷贮存及外管等〔局部〕工艺管道和设备，在装置前后必需保证一定的洁净度要求，循环水系统必需停止清洗预膜。本方案的编制还参照了我们以往在亚洲硅业〔青海〕1200吨/年、黄河水电新动力公司〔青海〕1500吨/年和浙江中宁硅业〔衢州〕2×1500吨/年多晶硅装置的清洗阅历和施工方法，结合浙江协成硅业多晶硅消费装置的特点，加以修正和完善。中标后，将依据图纸和设计的详细要求编制详细技术方案予以指点施工。

编制依据

HG20202-2000?脱脂工程施工及验收规范?；

HG/T2387-2007?工业设备化学清洗质量规范?；

HB5282-84?不锈钢酸洗钝化质量检验?；

2.4SJ20893-2003?不锈钢酸洗与钝化规范?；

JB/T6896-93?空分设备外表清洁度?；

HG/T3523-2020?冷却水化学处置规范腐蚀试片技术条件?；

GB8923-88?涂装前钢材外表锈蚀等级和除锈等级?；2.8GB8978-1999?污水综合排放规范?；

清洗目的

多晶硅厂是一个纯度要求高、工艺复杂、设备种类众多的化工系统〔局部具有冶金系统和半导体电子元器件的特点〕。为了增加工艺系统调试时污染处置的时间，最大限制地降低调试费用〔系统污染处置阶段的废品率高，产品产出价值低〕，使得装置早日消费出高纯度多晶硅产品，必需做好工艺设备和工艺管道装置前的清洗处置任务。针对不同的工艺要求、不同的设备材质以及不同的设备类型、清洗处置要求和到达的基本规范〔到达无油、无水、无尘与无杂质的四无要求和循环水的预膜要求〕需求采取不同的清洗方法，清洗施工工艺可划分为四类：喷淋清洗、循环清洗、浸泡清洗〔槽浸法和灌浸法〕和擦拭清洗。

清洗范围和洗前预备

清洗范围

本次清洗主要针对浙江协成硅业千吨级多晶硅装置，工程中所触及的分解、精馏提纯、

恢复整理、尾气回收、氯硅烷贮存及外管等〔局部〕相关的设备〔塔、罐、储槽、换热器、机泵和阀门管件等〕及相应的不锈钢管道和碳钢管道，详见4.1.2。

清洗任务范围

100工号〔普通清洗〕

a三氯氢硅分解炉之后走氯化分解料的设备，如储罐、计量罐、空冷器，换热器等；b工艺管道、尾气〔废气〕管道；

c氢气管道；d氮气管道；

e以上设备管道上的工艺阀门、仪表〔调理阀、切断阀、流量计、液位计〕；f分解尾气淋洗界区以内的设备和管道不清洗。

200工号及210工号〔普通清洗〕

a全部工艺设备，如储罐、换热器〔再沸器、冷凝器〕、塔器、屏蔽泵等；b全部工艺管道、尾气〔废气〕管道、氮气管道；

c以上设备或管道上的工艺阀门、仪表〔调理阀、切断阀、流量计、液位计〕；d尾气淋洗界区以内的设备和管道不清洗。

300工号 〔高纯清洗〕

a全部工艺设备，如储罐、气化器、气液分别器、尾气水冷器等；b全部工艺管道、尾气〔废气〕管道、氮气管道，氢气管道；

c以上设备或管道上的工艺阀门、仪表〔调理阀、切断阀、流量计、液位计〕；d尾气淋洗界区以内的设备和管道不清洗。

310工号〔普通清洗〕

a全部工艺设备，如储罐、换热器、塔器〔鼓泡淋洗塔、吸收塔、解吸塔〕，吸附器、屏蔽泵；

b全部工艺管道、尾气〔废气〕管道、氮气管道，氢气管道、盐酸气管道、纯水管道；c以上设备或管道上的工艺阀门、仪表〔调理阀、切断阀、流量计、液位计〕；

d尾气淋洗界区以内的设备和管道不清洗。

500工号〔洁净清洗〕

氩气管道、真空管道以及这些管道上的阀门、仪表。

510工号〔洁净清洗〕

氮气管道、氢气管道、纯水管道。

600工号〔普通清洗〕

a氮气枯燥器之后的管道及阀门、仪表；b氢气管道及阀门、仪表；

c纯水管道及阀门、仪表；

d除盐水管道及阀门、仪表。

650工号〔普通清洗〕

a氢气站界区以内由设备供应商担任清洗；

b界区以外〔厂房围墙外1米〕的设备〔主要是氢气储罐、缓冲罐〕；c界区以外〔厂房围墙外1米〕的氢气管道、氮气管道及阀门、仪表。

厂区管网〔洁净清洗〕

a工艺物料〔氯硅烷〕管道；

b氮气管道、氢气管道、纯水管道；c上述管道上的阀门、仪表。

200工号三氯氢硅产品系统及300工号混合气系统〔高纯清洗〕

a工艺物料管：从5、7、9级塔塔顶冷凝器以下的冷凝液管、产品管、恢复炉进气管、出气管、尾气管到恢复尾气水冷器止；

b与上述管道相连的工艺设备：5、7、9级塔的回流液罐3台，5、7、9级塔的三氯氢硅产品罐6台，气化器5台，气液分别器5台〔不含塔顶冷凝器和恢复尾气冷却器〕；

c与上述设备相连的氮气管和尾气管、废气管，从设