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提供了一种半导体存储器装置。所述半导体存储器装置包括:堆叠结构,具有竖直堆叠在基底上的多个层,每个层包括:第一位线和栅极线,在第一方向上延伸,第一半导体图案,在第一位线和栅极线之间沿第二方向延伸,第二方向与第一方向交叉,以及第二半导体图案,跨越第一栅极绝缘层与栅极线相邻,第二半导体图案在第一方向上延伸;第一字线,与第一半导体图案相邻并从基底在第三方向上竖直延伸,第三方向与第一方向和第二方向垂直;第二位线,连接到第二半导体图案的一端并从基底在第三方向上竖直延伸;以及第二字线,连接到第二半导体图案的
(19)中华人民共和国国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN111435660A
(43)申请公布日
2020.07.21
(21)申请号20191
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