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一种陶瓷基板大功率真空溅射设备.pdfVIP

一种陶瓷基板大功率真空溅射设备.pdf

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    本发明公开了一种陶瓷基板大功率真空溅射设备，涉及真空镀膜技术领域，包括真空腔体、设置于真空腔体中部的磁控靶、设置于磁控靶外围的固定架以及可拆卸固定于固定架上的陶瓷基板本体，所述真空腔体由筒体、设置于筒体顶端的顶板以及设置于筒体底部的底板组成；所述固定架包括均匀设置于磁控靶外围且与磁控靶平行设置的立架以及设置于立架上用于对陶瓷基板本体定位的夹持组件，所述立架为方框状。该陶瓷基板大功率真空溅射设备，通过设置的固定架由立架和夹持组件组成，便于对陶瓷基板本体进行夹持，且夹持时不会存在对陶瓷基板本体两个面

    (19)国家知识产权局

    (12)发明专利申请

    (10)申请公布号CN118086853A

    (43)申请公布日2024.05.28

    (21)申请号202410524351.6

    (22)申请日2024.04.29

    (71)申请人江苏透波光电科技有限公司

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