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半导体材料复习.docx

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    题型：一.简答5*10分二.综述3题50分

    Si〔砂子SiO2〕→粗硅〔97%〕→高纯多晶硅〔99.999999%〕→单晶硅棒→切片→外延片第一章

    粗硅的制备：SiO2+复原剂→Si〔97%〕SiO2+3C==SiC+2CO1600-1800℃2SiC+SiO2===3Si+2CO

    高纯硅的制备方法1.三氯氢硅复原法

    优点：产率大，质量高，本钱低

    步骤：粗硅→酸洗(去杂质)→粉碎→入枯燥炉→通入热氮气→枯燥→入沸腾炉→通干HCl→三氯氢硅

    Si+3HCl=SiHCl3+H2

    反响温度280-300℃，H2：HCl=1:3~5,硅粉

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