半导体制造导论.docx

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第五章章前

至少列出三种重要的加热制程

氧化,退火,沉积是三种重要的加热制程

说明直立式和水平式炉管的根本系统并列出直立式炉管的优点

气体输送系统,制程炉管,掌握系统,气体排放系统,装载系统。LPCVD的话再加上真空系统优点:占地面积小,微粒污染较低,能够处理大量的晶圆,均匀性较佳,修理本钱较低

说明氧化制程

氧化是最重要的制程之一,它是一种添加制程,把氧气加到硅晶圆上,在晶圆外表形成二氧化硅

说明氧化前清洗的重要性

氧化制程前的硅晶圆外表清洗是格外重要的,由于受到污染的外表会供给成核位置而形成二氧化硅多晶体层

识别干式氧化和湿式氧化制程及应用的差异性

干式制程:闲置状态下通入净化氮气气体—

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