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薄膜制备试验指导书
试验一磁控溅射法制备金属薄膜
一、试验目的
1、了解磁控溅射试验原理
2、学会操作磁控溅射仪
3、了解影响薄膜质量的因素二、根本原理
1薄膜制备过程
溅射沉积是一种物理气相沉积法,利用带有电荷的离子在电场中加速具有肯定动能的特点,将离子引
向欲被溅射的靶材。溅射过程是轰击粒子与靶原子之间能量传递的结果。 在轰
击离子能量适宜的状况下,在与靶材外表的原子碰撞过程中, 靶材外表原子将获得足够的动
能脱离固体外表,这些溅射出来的靶材原子带有肯定的动能沿着肯定的发向射向衬底, 从而
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