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半导体干净车间治理制度7
1.无尘车间治理的目的
干净室产品生产过程对车间有明确的干净要求,为了满足生产工艺需要、保证产品质量、安全生产,必需要对车间的环境、人员、设备和生产过程等进展掌握。,以下便是第1页的正文：
半导体干净车间治理制度
半导体干净车间的环境与生产要求一、氧化〔炉〕〔Oxidation〕
对硅半导体而言，只要在高于或等于1050℃的炉管中，通入氧气或水汽，自然可以将硅晶的外表予以氧化，生长所谓干氧层(dryz/gateoxide)或湿氧层(wet/fieldoxide)，当作电子组件电性绝缘或制程掩膜之用。氧化是半导体制程中，最干净、单纯的一种；这也是硅晶材料
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