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薄膜材料与技术
ThinFilmandTechnology
邹友生材料科学与工程系
郑伟涛等编著,《薄膜材料与薄膜技术》,化学工业出版社,2004
南京理工大学
NmjingUanemiyofSciseeandTeedaokeg
金刚石薄膜
透明导电氧化物薄膜
GaN基薄膜材料
非晶硅(a-Si:H)半导体薄膜装饰及耐磨薄膜
有机电致发光薄膜
薄膜材料及
其应用
第七章
南京理工大学
NmjingUahunsiyafSriseadTedaokges
7薄膜材料及其应用
·薄膜技术及薄膜材料已经涉及电子、计算机、磁
记录、信息、传感器、能源、机械、光学、航空、航天、核工业等各个部门。
●薄膜材料已大量用于电子器件和大规模集成电路
之外,还用于巨磁膜、绝缘膜、电介质膜、压电和铁电膜、光学膜、超硬膜、抗蚀和自润滑膜、装饰膜及各种特殊需要的功能膜。
南京理工大学
NamjingUanamiyafSciaeeandTeedaokgg
Superconducting
ChemicalElectrical
MechanicalElectronic
StudyofpropertiesThermal
Newmaterials
Bio
Environmental
南京理工大学
NanjingUanunsityafSiseeandTredaolgo
Applicatiorg
Magnetic
Decorative
Optical
四面体结构:共价键,键长为1.54A,键角为109028’。
晶格常数为a=3.56A
W不江一八于
NanjingUainersityafScisaceandTeedaokgs
7.1金刚石薄膜及其应用
(1)金刚石结构
·十分接近天然金刚石的最高的硬度和弹性模量、低的
摩擦系数、室温下极高的热导率和电阻率、最高的声波速度、低的介电常数、高击穿电压、高的载流子迁移率、掺杂后可成为卓越的P型或N型半导体、极佳的化学惰性、高的光学透射率和负电子亲和势等。
·金刚石膜集力学、电学、热学、声学、光学、耐蚀等
优异性能于一身,是一种难得的功能薄膜材料,在机械,航空航天、微电子、光电子和生物医学等高新技术领域具有重要的应用。
(2)金刚石薄膜的性质
南京理工大学
NmjingUanunityafSiseeadTedaokegy
力学性能
天然金刚石
CVD金刚石薄膜
硬度/GPa
100
80~100
密度/g·cm³
3.515
2.8~3.5
熔点/℃
4000
接近4000
弹性模量/Pa
1.04×1012
接近1.04×1012
杨氏模量/GPa
1200
1050~1200
纵波声速/m·s
18000
18500
泊松比
0.2
0.2
摩擦系数
0.08~0.15
0.1
抗拉强度/σ
约3GPa
200~400MPa
线膨胀
系数
300K
500K
1000K
1.0×10-6/K2.7×10-6/K4.4×10-6/K
1.0×10-6/K
2.7×10-6/K
4.4×10-6/K
天然金刚石和CVD金刚石薄膜的主要力学性质
南草理工大学
NamjingUaiersityafScisaeeandTecdnokgs
金刚石的(a)硬度与(b)热导率和其他硬质材料的比较。
Ther.Cond.(w/cmK)
Hardness(GPa)
南京理工大学
NanjingUanurityafScisseeandTednokgg
电学性能
天然金
刚石
CVD金
刚石膜
Ge
Si
GaAs
晶格常数/A
3.567
3.57
5.64613
5.43095
5.6533
禁带宽度/e·V
5.45
5.45
0.66
1.12
1.43
击穿电场/V·cm1
3.5×106
1×107
~105
~3×105
~4×105
电阻率/Ω·cm
1016
1012
A2
2.5×105
4×108
介电常数
5.5
5.5
16
11.8
13.1
电子迁移率/
cm²·(V·s)-1
2200
1900
3900
1500
8500
空穴迁移率/
cm²·(V·s)-1
1600
1600
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