包含表面活性剂的化学机械抛光组合物.pdf

(19)中华人民共和国国家知识产权局

(12)发明专利说明书

(10)申请公布号CN102337080A

(43)申请公布日2012.02.01

(21)申请号CN201110150388.X

(22)申请日2005.10.21

(71)申请人卡伯特微电子公司

地址美国伊利诺伊州

(72)发明人孙韬罗伯特·梅兹克

(74)专利代理机构北京市柳沈律师事务所

代理人宋莉

(51)Int.CI

C09G1/02

G11B5/84

H01L21/321

权利要求说明书说明书幅图

(54)发明名称

包含表面活性剂的化学机械抛光组

合物

(57)摘要

本发明涉及包含表面活性剂的化学

机械抛光组合物，更具体地说，本发明提

供一种抛光组合物，其包括热解法氧化

铝，α-氧化铝，二氧化硅，非离子表面活

性剂，金属螯合有机酸，及液体载体。本

发明还提供一种化学机械抛光基板的方

法，其包括将基板与抛光垫和化学机械抛

光组合物接触，并磨掉至少部分基板以抛

光该基板。

法律状态

法律状态公告日法律状态信息法律状态

权利要求说明书

1.一种抛光组合物，包含：

(a)约0.2至约1重量％的热解法氧化铝，

(b)约0.1至约1重量％的α-氧化铝，

(c)约0.1至约4重量％的二氧化硅，其中所述二氧化硅为胶体二氧化硅，

(d)约10至约1000ppm的非离子表面活性剂，

(e)金属螯合有机酸，

(f)氧化剂，其选自过氧化氢、脲过氧化氢、过硫酸、过氧乙酸、过硼酸、它们的盐、

以及它们的组合，和

(g)液体载体。

2.权利要求1的抛光组合物，其中该非离子表面活性剂选自包含硅氧烷单元、氧化

乙烯单元和氧化丙烯单元的共聚物表面活性剂。

3.权利要求1的抛光组合物，其中该非离子表面活性剂选自包含丙烯酸的聚合物。

4.权利要求1的抛光组合物，其中该非离子表面活性剂选自一端为全氟化烷基链而

另一端为羟基或烷基的氧化乙烯线性聚合物。

5.权利要求1的抛光组合物，其中该非离子表面活性剂选自具有氧化乙烯单元和氧

化丙烯单元的乙二胺共聚物。

6.权利要求1的抛光组合物，其中该金属螯合有机酸选自丙二酸，琥珀酸，己二酸，

乳酸，顺-丁烯二酸，苹果酸，柠檬酸，甘氨酸，天冬氨酸，酒石酸，葡萄糖酸，

亚氨二乙酸，及反-丁烯二酸。

7.权利要求1的抛光组合物，其中该液体载体包括水。

8.权利要求7的抛光组合物，其中该抛光组合物的pH为约1至约7。

9.权利要求8的抛光组合物，其中该抛光组合物的pH为约2至约5。

10.权利要求1的抛光组合物，其中该氧化剂为过氧化氢。

11.权利要求1的抛光组合物，包含：

(a)约0.2至约1重量％的热解法氧化铝，

(b)约0.1至约1重量％的α-氧化铝，

(c)约0.1至约4重量％的胶体二氧化硅，

(d)约10至约1000ppm的非离子表面活性剂，其中该非离子表面活性剂选自包括硅

氧烷单元、氧化乙烯单元和氧化丙烯单元的共聚物表面活性剂，

(e)金属螯合有机酸，

(f)氧化剂，其选自过氧化氢、脲过氧化氢、过硫酸、过氧乙酸、过硼酸、它们的盐、

以及它们的组合，和

(g)液体载体，其中该液体载体为水，

其中该抛光组合物的pH为约2至约5。

12.权利要求1的抛光组合物，包含：

(a)约0.2至约1重量％的热解法氧化铝，

(b)约0.1至约1重量％的α-氧化铝，

(c)约0.1至约4重量％的胶体二氧化硅，

(d)约10至约1000ppm的非离子表面活性剂，其中该非离子表面活性剂选自具有氧

化乙烯单元和氧化丙烯单元的乙二胺共聚物，

(e)金属螯合有机酸，其中该金属螯合有机酸为酒石酸，

(f)过氧化氢，和

(g)液体载体，其中该液体载体为水，

其中该抛