p阱CMOS芯片制作工艺设计掺杂工艺参数计算.docx

p阱CMOS芯片制作工艺设计掺杂工艺参数计算

p阱CMOS芯片制作工艺设计

名目

一．设计参数要求 2

二． 设计内容 3

1：PMOS管的器件特性参数设计计算。 3

2：NMOS管参数设计及计算。 4

3：p阱CMOS芯片制作的工艺实施方案； 5

工艺流程 5

4．光刻工艺及流程图(典型接触式曝光工艺流程为例)

........................................................................12

5：掺杂工艺参数计算； 14

P阱参杂工艺计算 14

②PMOS参杂工艺计算 15

③NMOS参杂工艺