MASK介绍与曝光机原理.docx

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MASK介绍与曝光机原理

Mask说明:

将mask上的图形通过曝光〔UV光〕,复制到玻璃基板上,通过显影等方式,形成CF图形。

mask样图:

Mask规格

一、mask 规格

适用范围

本规格书适用于清溢周密光电(深圳)为湖南普照爱伯乐显示器件 供给的苏打玻璃铬版。

铬版原材料工程材质

铬版原材料

工程材质

玻璃外形尺寸

玻璃基版厚度

规格

苏打玻璃

**

X

**

4.8±0.2

mm

mm

铬膜厚度

1000?±100?

反射率

10.0±5%(at436nm)

铬膜光学密度

3.0±0.3(at 450nm)

尺寸精度

工程

规格

产品区分

外形尺寸精度

CF

±1

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