日光温室樱桃番茄栽培技术规程.pdfVIP

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日光温室樱桃番茄栽培技术规程

1范围

本文件规定了日光温室樱桃番茄栽培技术的术语和定义、栽培条件、育苗、定植前准备、定植、田

间管理、采收和生产档案。

本文件适用于日光温室樱桃番茄的栽培。

2规范性引用文件

下列文件中的内容通过文中的规范性引用而构成本文件必不可少的条款。其中,注日期的引用文件,

仅该日期对应的版本适用于本文件;不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改单)适用于本

文件。

GB5084农田灌溉水质标准

GB16715.3瓜菜作物种子第3部分:茄果类

GB/T23416.2蔬菜病虫害安全防治技术规范第2部分:茄果类

JB/T10594日光温室与塑料大棚结构与性能要求

NY/T2118蔬菜育苗基质

NY/T2119蔬菜穴盘育苗通则

NY/T2798.3无公害农产品生产质量安全控制技术规范第3部分:蔬菜

NY/T5010无公害农产品种植业产地环境条件

3术语和定义

下列术语和定义适用于本文件。

3.1

子苗期

子叶到第一片真叶显露的时期。

3.2

成苗期

真叶吐心到长成商品苗标准的时期。

3.3

炼苗期

成苗到定植的时期。

4栽培条件

3

4.1产地环境

选择地势高燥、排水通畅、地下水位较低、土层深厚、富含有机质的沙壤土或壤土的地块。符合NY/T5010

蔬菜产地要求。

4.2设施条件

采用的日光温室的建设标准可参照NY/T3024的有关规定。日光温室的结构与性能要求可参照JB/T

10594的有关规定。

5育苗

5.1育苗方式

采用穴盘育苗,选择50孔的穴盘。穴盘育苗参照NY/T2119的规定。基质的配比为(按体积)草炭:

蛭石:珍珠岩6:2:2。基质参照NY/T2118的规定。

5.2品种选择

选用高产、优质、果形优美、抗逆性能强、适应性广的中小型番茄品种。

5.3种子质量

种子色泽纯正、无霉变,净度不彽于98%,纯度不低于96%,发芽率不低于85%,水分含量不高于8%,

千粒重3.0g左右。参照GB16715.3中规定的杂交种二级的要求。

5.4播种

播种前处理和播种的方法参照NY/T2119的规定。

5.5苗期管理

5.5.1子苗期

白天温度控制在20℃~25℃,夜间温度一般控制在15℃~17℃。基质相对湿度保持在60%~70%。

5.5.2成苗期

白天温度控制在18℃~22℃,夜间温度13℃~15℃。苗期水分管理见干见湿,基质相对含水量一般控

制在60%~70%。

5.5.3炼苗期

保持基质相对湿度在60%左右,停止浇水。定植前一天傍晚苗床浇一次透水,叶面喷施广谱性杀菌剂和

4

杀虫剂。

5.6壮苗标准

穴盘育苗的苗龄一般60d左右,4片~5片叶,叶色浓绿,株高15cm~18cm。主茎浓绿粗壮,子叶完

好,无病虫害。

6定植前准备

6.1高温闷棚

高温闷棚前铺撒作物秸秆、农作物废弃物、有机肥和化肥,以及秸秆速腐剂。闷棚的方法参照

DB13/T1428的规定。

6.2整地施基肥

每667m²施优质腐熟有机肥5000kg~6000kg。磷肥作基肥,磷酸二铵25kg,或过磷酸钙100kg。土壤

速效磷在PO80mg/kg~100mg/kg范围,可不再施用磷肥。施用硫酸钾20kg,生物菌肥80kg。混合均匀,

25

撒施地表,深翻50cm。

6.3作畦

一般高畦栽培。大小行作畦,大行距90cm,小行距50cm,畦高20cm~30cm。

7定植

7.1定植密度

株距40cm,每667m栽培株数2300株。2

7.2铺设滴灌设施

节水栽培。每畦铺设2根滴灌管,排在根系附近。滴头间距20cm~30cm。

7.3定植方法

定植于畦内半腰上,种植深度以子叶距地面1cm为宜。定植后及时浇透水。一周左右发现有死苗要及时

补苗,随后覆盖地膜。

8田间管理

8.1水肥管理

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