华理材料研究方法复习题(共25张课件).pptxVIP

华理材料研究方法复习题(共25张课件).pptx

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材料研究方法;XRD和EDXRF;描述X射线与物质的相互作用(X射线与物质相互作用产生的物理效应或物理信号)

EPMA主要分析方法及应用

X射线与物质的作用:散射、吸收和透过

描述X射线与物质的相互作用(X射线与物质相互作用产生的物理效应或物理信号)

2006年考试

2007年考试

绝对灵敏度高,最小检测极限为0.

⑵分子式(样品的元素组成)

二次电子、背散射电子的图像衬度

X射线机包括热阴极、阳极(靶)和窗口等,处于高真空状态。

透射电镜的制样要求及样品类型,SEM在制样方面有何不同

二次电子、背散射电子的图像衬度

电子与物质相互作用产生的物理信号:二次电子、背散射电子、透射电子、吸收电子、特征X射线、阴极荧光、束感生效应等。

放大倍数大,具有一定的分别率等。

SEM是利用微细电子束在样品表面上扫描成像,主要成像信号为二次电子、背散射电子和吸收电子等。

ElectronProbeX-rayMicroAnalyzer;能谱分析与波谱分析有何异同点

SEM是利用微细电子束在样品表面上扫描成像,主要成像信号为二次电子、背散射电子和吸收电子等。

透射电镜的制样要求及样品类型,SEM在制样方面有何不同

ElectronProbeX-rayMicroAnalyzer

/特征X射线能量或波长

质谱仪中质量分析器的主要类型;

晶体对X射线衍射的位置(花样)和强度

X射线:是一种电磁波,波长为0.

分析区为微区,不破坏样品——可分析包裹体成分

电子显微分析技术的主要用途

电子与物质相互作用产生的物理信号:二次电子、背散射电子、透射电子、吸收电子、特征X射线、阴极荧光、束感生效应等。

X射线分析的方法主要有哪些?各自的特点是什么?(注意?与?的变化情况)

X射线机包括热阴极、阳极(靶)和窗口等,处于高真空状态。

由分子结构与裂解方式的经验规律,根据碎片离子的m/z及相对丰度RA提供分子结构信息;

样品制备:简单,块状样或粉末;;扫描电镜的基本原理。

扫描电镜的结构和特点(与TEM进行对比)。

扫描电镜图像衬度的产生原因、类型及主要特点。

扫描电镜的在材料研究中的主要用途。;电子探针分析的基本原理

电子探针的主要分析方法

能谱分析与波谱分析有何异??点

电子探针对材料成分分析与EDXRF成分分析有何异同点?;MS;质谱仪中质量分析器的主要类型;

无机质谱的常见类型及主要用途;

有机质谱与无机质谱有何异同;;X射线:是一种电磁波,波长为0.01-10nm,具有波粒二象性。X射线谱有连续X射线和特征X射线。

X射线的产生:任何高速运动的电子突然减速,一般由X射线机、同步辐射源等产生。X射线机包括热阴极、阳极(靶)和窗口等,处于高真空状态。

X射线与物质的作用:散射、吸收和透过

X射线衍射的条件——布拉格方程

X射线衍射的方法

单晶:劳埃法(?变,?不变)和转晶法(?不变,?部分变化)

粉晶:照相法(?不变,?变化)和衍射仪法(?不变,?变化);X射线衍射的应用——物相分析

原理

过程或步骤

索引

字母索引

哈氏索引

芬克索引;电子显微分析:是利用聚焦电子束与试样物质相互作用产生的各种物理信号分析试样的微区形貌、晶体结构和化学组成,主要有透射电镜TEM、扫描电镜SEM、电子探针EPMA等。

电子与物质相互作用产生的物理信号:二次电子、背散射电子、透射电子、吸收电子、特征X射线、阴极荧光、束感生效应等。

透射电镜的工作原理与过程:电子枪?电子束?样品?物理信号?物镜、中间镜、投影镜?荧光屏

透射电镜的结构:光学成像系统(照明部分、成像放大、图像观察记录、样品台)、真空系统和辅助系统(电气系统);透射电镜的制样要求及样品类型,SEM在制样方面有何不同

电子显微分析技术的主要用途

放大图像—微形貌和显微结构,组成与成分,电子衍射—晶体结构与缺陷等

透射电镜与扫描电镜的异同点

图像衬度及其类型;SEM是利用微细电子束在样品表面上扫描成像,主要成像信号为二次电子、背散射电子和吸收电子等。

特点:大样品制样简单;景深大;放大倍数大,具有一定的分别率等。

结构:由电子光学系统(镜筒)、偏转系统(扫描系统)、信号探测放大系统、图象显示记录系统、真空系统和电源系统等。;性能指标:15-20万倍;分别率;景深大,立体感强。

图像及其衬度

二次电子像:形貌衬度,成分和相位衬度

背散射电子像:形貌衬度和成分衬度

样品制备:简单,块状样或粉末;样品为?25mm,非导电样品需镀膜(Pt/Au/C)

应用:图像,成分;镜筒部分与扫描电镜基本相似,有一套X射线谱仪系统

分析区为微区,不破坏样品——可分析包裹体成分

分析元素范围:Be-U或Na-U

绝对灵敏度高,最小检测极限为0.001%-0.01%

样品应有抛光面,具有良好的导电性,否则需要镀Au、C等。

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