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材料电子及中子分析技术第6章 高分辨像ppt.pptxVIP

材料电子及中子分析技术第6章 高分辨像ppt.pptx

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高分辨原理材料研究方法南京理工大学材料学院·朱和国

课程内容一试样透射函数(物面波函数)衬度传递函数像面波函数最佳欠焦条件及电镜最高分辨率二三四五第一通带宽度的影响因素

物镜光阑同时让透射束和多个衍射束通过,共同达到像平面干涉成像的操作。物镜光阑完成四种操作:明场操作:透射束下行成像(物镜光阑)暗场操作:衍射束下形成像(物镜光阑)中心暗场操作:偏置+暗场(物镜光阑)高分辨操作:透射束+衍射束同时下行成像(物镜光阑)基本概念1.高分辨操作:

环节1)电子波与试样的相互作用,在试样的下表面形成透射波,又称物面波;其数学表达为试样透射函数环节2)透射波经物镜成像,经多级放大后显示在荧光屏上,其数学表达为试样物面波函数该过程又分为两步:从透射波函数到物镜后焦面上的衍射斑点(衍射波函数)再从衍射斑点到像平面上成像,这两过程为傅里叶的正变换与逆变换。该过程的数学表达为衬度传递函数2.成像过程两个环节(3个函数):

1)成像束:HRTEM为多电子束成像,而TEM则为单电子束。2)结构要求:HRTEM对极靴、光阑要求高于TEM。3)成像:HRTEM仅有成像分析(晶体与非晶均可成像),包括一维、二维的晶格像和结构像,而TEM除了成像分析还可衍射分析。4)试样要求:HRTEM试样厚度一般小于10nm,可视为弱相位体,即电子束通过试样时振幅几乎无变化,只发生相位改变,而TEM试样厚度通常为20~200nm。5)像衬度:HRTEM像衬度主要为相位衬度,而TEM则主要是振幅衬度。3.高分辨电子显微镜(HRTEM)与透射电镜(TEM)存在以下区别:

一、试样透射函数的近似表达式(物面波函数)推导得物面波函数即透射函数:

理想透镜,相位体的像不能产生任何衬度。实际上由于物镜存在球差、色差、像散(离焦)以及物镜光阑、输入光源的非相干性等因素,此时可产生附加相位,从而形成像衬度,看到晶格条纹像。有意识地引入一个合适的欠焦量,即让像不在准确的聚焦位置,可使高分辨像的质量更好。这些因素的集合体即为相位传递函数。

二、衬度传递函数衬度传递函数即为一个相位因子,它综合了物镜的球差、欠焦量及物镜光阑等诸多因素对像衬度(相位)的影响,是多种影响因素的综合反映。主要讨论三因素:欠焦量、球差、物镜光阑1)欠焦量

2)球差3)物镜光阑B(μ,ν)-照明束发散度引起的衰减包络函数C(μ,ν)-物镜色差效应引起的衰减包络函数照明束发散度:聚光镜的调整,物镜的色差:稳定电压得到有效控制,忽略之

三.像平面上的像面波函数其强度函数为令I0=1,则像衬度为理论推导得:也称相位传递函数

四、最佳欠焦条件及电镜最高分辨率(1)最佳欠焦条件-Scherzer欠焦条件(谢尔策条件)=-1的平台最宽时的欠焦量即为最佳欠焦量(2)电镜最高分辨率即最佳欠焦条件下的分辨率图7-5物镜离焦对曲线的影响

五、第一通带宽度的影响因素第一通带宽度的主要因素:离焦量?f、加速电压U和球差系数Cs(1)离焦量?f

图7-7不同离焦量对函数曲线形态影响的比较离焦中,欠焦时通带宽度增加,其倒数对应的分辨率提高

(2)加速电压(3)球差系数加速电压增加,平台增宽,倒数变小,分辨率提高球差系数减小,平台增宽,倒数变小,分辨率提高注意:球差系数和加速电压一般为常数,故欠焦量为最佳调节量获取高分辨率谢谢!

高分辨图像材料研究方法南京理工大学材料学院·朱和国

课程内容一晶格条纹像一维结构像二维晶格像二维结构像二三四

成像条件:使用较大的物镜光阑,在物镜的后焦面上,同时让透射束和某一衍射束(非晶样品对应其“晕”的环上一部分)这两只波相干成像,就能得到一维方向上强度呈周期性变化的条纹花样,从而形成了“晶格条纹像”。即:1透射束+1衍射束()一、晶格条纹像成像条件较低:1)不要求电子束严格平行于晶带的平面。2)试样厚度也不是极薄。3)无特定衍射条件,故晶格条纹像与晶体结构的对应性较差。

(a)非晶样品典型的无序点状衬度(b)样品中非晶组分和小晶粒形态分布(c)Si3N4陶瓷中的平直晶界与三叉晶界(d)Al2O3-ZrO2复合陶瓷的三叉晶界应用:解观察对象的尺寸、形态、区分晶区与非晶区,区分夹杂和析出物,不反映晶体结构信息,不可模拟计算。说明:(a)非晶(b)550℃晶化,大部分晶化(c)三角晶区有部分非晶成分,晶界存在非晶薄层(d)三角晶区没有杂质相存在,晶界、相界没有杂质相

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