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LCD工艺流程简述
一、前段工位:
ITO玻璃的投入(grading)——玻璃清洗与干燥(CLEANING)——
涂光刻胶(PRCOAT)——前烘烤(PREBREAK)——曝光(DEVELOP)
显影(MAINCURE)——蚀刻(ETCHING)——去膜(STRIPCLEAN)
【】——图检(INSP)——清洗干燥(CLEAN)
属于光科技术,详见百度百科
——TOP涂布(TOPCOAT)——UV烘烤(UVCURE)——固化(MAIN
CURE)——清洗(CLEAN)——涂取向剂(PIPRINT)——固化(MAIN
CURE)——清洗(CLEAN)——丝网印刷(SEAL/SHORTPRINTING)
——烘烤(CUPINGFURNACE)——喷衬垫料(SPACERSPRAY)——
对位压合(ASSEMBLY)——固化(SEALMAINCURING)
讲解:
1.ITO图形的蚀刻:(ITO玻璃的投入到图检完成)
A.ITO玻璃的投入:根据产品的要求,选择合适的ITO玻璃装入
传递篮具中,要求ITO玻璃的规格型号符合产品要求,切记ITO层
面一定要向上插入篮具中。
B.玻璃的清洗与干燥:将用清洗剂以及去离子水(DI水)等洗净
ITO玻璃,并用物理或者化学的方法将ITO表面的杂质和油污洗净,
然后把水除去并干燥,保证下道工艺的加工质量。
光刻技术(1.气相成底模2.旋转烘胶3.软烘4.对准和曝光5.曝光后烘焙(PEB)
6.显影7.坚膜烘焙8.显影检查)
C.涂光刻胶:在ITO玻璃的导电层面上均匀涂上一层光刻胶,涂
过光刻胶的玻璃要在一定的温度下作预处理:
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D.前烘:在一定的温度下将涂有光刻胶的玻璃烘烤一段时间,以使
光刻胶中的溶剂挥发,增加与玻璃表面的粘附性。
E.曝光:用紫外光(UV)通过预先制作好的电极图形掩模版照射光
刻胶表面,使被照光刻胶层发生反应,在涂有光刻胶的玻璃上覆盖光
刻掩模版在紫外灯下对光刻胶进行选择性曝光:(如图所示)
F.显影:用显影液处理玻璃表面,将经过光照分解的光刻胶层
除去,保留未曝光部分的光刻胶层,用化学方法使受UV光照射部
分的光刻胶溶于显影液中,显影后的玻璃要经过一定的温度的坚
膜处理
G.坚膜:将玻璃再经过一次高温处理,使光刻胶更加坚固。
H.刻蚀:用适当的酸刻液将无光刻胶覆盖的ITO膜蚀掉,这样
就得到了所需要的ITO电极图形,
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。
注:ITO玻璃为(In2O3与SnO2)的导电玻璃,此易与酸发生反
应,而用于蚀刻掉多余的ITO,从而得到相应的拉线电极。
I.去膜:用高浓度的碱液(NaOH溶液)作脱膜液,将玻璃上余
下的光刻胶剥离掉,从而使ITO玻璃上形成与光刻掩模版完全一
致的ITO图形。(即按客户要求进行显示的部分拉线蚀刻完成,如
图)
J.清洗干燥:用高纯水冲洗余下的碱液和残留的光刻胶以及其
它的杂质。
二、特殊制程:(TOP膜的涂布到固化后清洗)
一般的TN与STN产品不要求此步骤,TOP膜的涂布工艺是在光
刻工艺之后再做一次SiO2的涂布,以此把刻蚀区与非刻蚀区之间
的沟槽填平并把电极覆盖住,这既可以起到绝缘层的作用,又能
有效地消除非显示状态下的电极底影,还有助于改善视角特性等
等,因此大部分的高档次产品要求有TOP涂布。
三、取向涂布(涂取向剂到清洗完成)
此步工艺为在蚀刻完成的ITO玻璃表面涂覆取向层,并用特定的
方法对限向层进行处理,以使液晶分子能够在取向层表面沿特定
的方向取向(排列),此步骤是液晶显示器生产的特有技术。
A.涂取向剂:将有机高分子取向材料涂布在玻璃的表面,即采
用选择涂覆的方法,在ITO玻璃上的适当位置涂一层均匀的取向
层,同时对取向层做固化处理。(一般在显示区)
B.固化:通过高温处理使取向层固化。
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