高质量三维光子晶体结构的制备及其对微纳米光源发光性质的调控.pdfVIP

高质量三维光子晶体结构的制备及其对微纳米光源

发光性质的调控

一、引言

随着纳米科技的飞跃发展，三维光子晶体结构作为一种新型的纳米

结构材料，因其具有多种优异的光学性质而备受研究者和工程师的青睐。

其中，三维光子晶体结构的制备及其对微纳米光源发光性质的调控便备

受广泛关注。本文主要针对这一问题进行论述。

二、三维光子晶体结构制备的方法

三维光子晶体结构的制备可以通过多种方式实现，包括干涉图案显

微镜法、自组装法、显微镜制作法、光刻制作法、同时撞击和固化法、

电镜束光束刻写法等等。其中，干涉图案显微镜法和自组装法是目前应

用最广泛的两种方法。

干涉图案显微镜法是通过激光的共聚焦作用将紫外光聚焦在一个点

上，用紫外光敏聚合物或者高分子材料作为反应体系，在光束交汇的点

上聚合成立体光子晶体结构。这种方法具有高度可控性和高分辨率等优

点，但是制备周期长、材料成本高等缺点。

自组装法则是利用分子间的自组装作用，由小分子自发组装成具有

周期性排列的大分子结构，从而制备出光子晶体结构。这种方法是一种

简单易行的技术，且制备周期短、成本低，但制备的晶体结构不够完美，

需要对其进行后处理。

除此之外，还有一些新型的三维光子晶体结构制备