1023S02031-半导体薄膜技术-2023版人才培养方案教学大纲.docxVIP

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ADDINCNKISM.UserStyle《半导体薄膜技术》课程教学大纲

（理论课程·2023版）

一、课程基本信息

课程号

1023S02031

开课单位

物理科学与技术学院

课程名称

（中文）半导体薄膜技术

（英文）TechnologyofSemiconductorThinFilms

课程性质

选修

考核类型

考查

课程学分

2

课程学时

34

课程类别

专业发展课程（专业拓展课）

先修课程

普通物理、力学、热学、光学、电磁学

适用专业（类）

应用物理学

二、课程描述及目标

（一）课程简介

《半导体薄膜技术》课程是一门适用于应用物理学专业高年级本科生的专业拓展课程，课程内容分为半导体薄膜物理基础、半导体薄膜制备技术和半导体薄膜性质分析及应用三个主体部分，具体包括真空技术基础、薄膜的物理气相沉积法、薄膜的化学气相沉积法、溶液镀膜法、薄膜的生长及结构、现代薄膜分析方法、薄膜的物理性质和薄膜器件应用等方面。课程兼具理论性和应用性，将拓展学生知识领域，激发学生相关学习兴趣，为日后开展半导体薄膜材料相关的具体学习或工作任务奠定基础。

（二）教学目标

通过本课程的学习，使学生了解半导体薄膜技术的发展及应用概况，掌握半导体薄膜制备技术的原理、方法和技术特点，具备分析薄膜形成和生长、薄膜结构和缺陷的基本物理知识，学会薄膜结构和性质的表征检测手段。通过课程学习，学生将认识到薄膜技术在现代科技发展中的重要用途，了解学科前沿发展动态、新技术应用及科研课题发展现状。

课程目标1：掌握半导体薄膜制备的原理与方法，对半导体薄膜制备技术的应用特点和选用原则形成深刻的理解。

课程目标2：具备剖析半导体薄膜形成和生长过程的能力，深刻理解薄膜结构缺陷的形成原因，学会分析薄膜沉积中各种技术参数对薄膜结构和缺陷的影响。

课程目标3：培养学生跨学科的思维方法与学习兴趣，熟悉相关技术的应用前景，学会薄膜的分析与表征方法，对薄膜的物理性质有基本的认识。

课程目标4：培养学生理论联系实际的科学思维和严谨求实的科学态度，形成一定的综合应用知识、解决问题的基本能力，强化技术感染力和时代使命感。

三、课程目标对毕业要求的支撑关系

毕业要求指标点

课程目标

权重

1-2：特色专业知识：掌握发光与显示、红外物理、光电传感的基础知识和理论，熟悉相关技术的应用前景，掌握分析方法/应用技术。

课程目标1

课程目标3

50%

2-2：应用知识能力：具有综合应用知识、解决问题的基本能力、实验和工程实践能力、计算机及信息技术应用能力。

课程目标2

30%

3-1：专业素质：具有科学思维方法、科学精神、创新意识，具有勇攀科学高峰的使命感，具有一定的技术创新和应用意识及工程技术素养。

课程目标3

10%

3-2：人文素质：具有深厚家国情怀，具有良好的文化素养、艺术素养、现代意识、全球意识、团队精神。

课程目标4

10%

四、教学方式与方法

本课程主要采取课堂讲授的方式进行教学，注重知识体系分类，突出半导体薄膜技术和应用的案例式教学。融入多媒体教学手段，通过形象简洁地剖析半导体薄膜制备技术原理、过程及薄膜结构，激发学生相关学习兴趣，提高教学效果，达到理解半导体薄膜物理原理、掌握薄膜制备技术和熟悉薄膜分析及应用的教学目标。尊重学生的课堂主体作用，重视师生互动和学生反馈，在此基础上创新教学手段和内容组织与呈现方式。倡导不同制备技术与原理间的比较式教学，通过区别与联想强化对授课内容的理解与掌握。

五、教学重点与难点

（一）教学重点

本课程教学的重点内容包括：半导体薄膜的物理气相沉积、半导体薄膜的化学气相沉积、溶液镀膜法、薄膜的生长过程和薄膜结构、薄膜的表征方法及应用。

（二）教学难点

本课程的教学难点主要有：理解和区别不同半导体薄膜制备技术的基本原理与应用特点。掌握薄膜的成核与生长理论，理解结构缺陷的来源和调控手段。

六、教学内容、基本要求与学时分配

序号

教学内容

基本要求

学时

教学

方式

对应课程目标

1

第1章真空技术基础

1.1真空的基本知识

1.2真空的获得

1.3真空的测量

掌握真空、平均自由程的概念，真空各种单位的换算，碰撞频率、余弦散射率、碰撞频率的长度分布率的公式，机械泵、扩散泵、分子泵以及热偶真空计和电离真空计的工作原理。

理解蒸汽、理想气体的概念，理想气体的速度分布率，真空系统的构成，真空中气体的来源，高真空泵的工作原理。

2

讲授

课程目标1

课程目标3

课程目标4

2

第2章真空蒸发镀膜

2.1蒸发镀膜的特点和原理

2.2蒸发源的蒸发特性及膜厚分布

2.3蒸发源类型

2.4蒸发应用实例

理解真空蒸发镀膜的原理及基本过程，掌握饱和蒸汽压、蒸发速度、薄膜纯度以及合金蒸发的公式。

了解点蒸发源和小平面蒸发源的膜厚分布特征。掌