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高功率脉冲磁控溅射技术的研究进展
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高功率脉冲磁控溅射技术的研究进展
摘要
高功率脉冲磁控溅射技术（HIPIMS）沉积薄膜主要是高度离化的离子受到鞘层电压的吸引而去轰击基片，并且将动能传输给薄层表面的原子，有利于原子的迁移和扩散，进而引起薄膜结构、化学组成及内应力的变化。因此薄膜性能会直接受到等离子体中金属离化率大小的影响。目前所发展研究的高功率脉冲磁控溅射技术，在物理气相沉积领域处于核心地位，主要是由于它放电时拥有较高的离化率，堆积致密以及镀膜性能好的优势，还可以实现复杂形状工作的薄膜沉积，具有广泛的应用前景。
本次研究查找大量的文献来了解几种不同薄膜沉积技术的优缺
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