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专利概况
专利趋势
展示该技术领域逐年公开的专利申请量、授权量及对应授权率(当年申请的专利授权量/当年申请量)。申请量较多的年份为该技术领域热度较高的年份,申请趋势上升可以反映该技术领域研发投入呈上升趋势。由于发明授权的周期长,专利公开具有延后性,因此近2-3年的申请量和授权率可能偏低。
申请年
类型
申请
授权
授权占比
2015
全部
644
382
59.32%
2016
全部
676
412
60.95%
2017
全部
692
403
58.24%
2018
全部
918
567
61.76%
2019
全部
1105
701
63.44%
2020
全部
1504
893
59.38%
2021
全部
1682
860
51.13%
2022
全部
1859
652
35.07%
2023
全部
2040
621
30.44%
2024
全部
631
73
11.57%
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专利类型
展示该技术领域的专利类型分布,发明和实用新型是功能、结构上的创新,外观设计是对产品外观的创新。—般发明占比越高,则创新程度越高;实用新型侧重产品的小改进;产品种类多、更新换代快的行业外观设计偏多。
类型
数量
发明专利
13717
实用新型
2483
外观设计
72
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法律状态
专利有效性为有效的专利可以用于维权,失效专利技术不再受法律保护,审中专利可以受临时保护,授权后再维权。失效原因反映主体的技术水平、管理水平等。
法律状态
数量
有效
7583
无效
4556
在审
4133
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技术生命周期
展示专利申请量与专利申请人数量随时间的推移而变化的情况。分析当前技术领域生命周期所处阶段,推测未来技术发展方向。如随时间增长,申请量和申请人数量都大幅提升,表明该专利技术处于增长期。由于专利公开的延后性,近两年的申请量和申请人数量可能偏低。
申请年
申请量
申请人数量
2015
644
258
2016
676
255
2017
692
308
2018
918
373
2019
1105
448
2020
1504
611
2021
1682
763
2022
1859
848
2023
2040
930
2024
631
412
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专利申请中国省市分布
展示该技术领域在中国各省市的专利申请量分布。申请量较大的区域,该地区通常有相关技术集群,相关技术的研究较为先进。颜色越深表明申请量越多,鼠标定位到右侧,颜色条会显示对应的申请量,地图中相应申请量的区域也会高亮。
地域
申请量
上海
3866
江苏
2005
北京
1692
广东
1593
浙江
847
安徽
781
四川
624
湖北
598
陕西
456
黑龙江
398
山东
326
吉林
317
福建
237
天津
203
湖南
202
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重庆
150
江西
109
河北
94
河南
84
广西
70
山西
68
甘肃
44
云南
41
中国台湾
20
贵州
13
内蒙古
8
海南
8
中国香港
7
宁夏
6
新疆
4
青海
1
辽宁164
技术分析
技术构成
展示该技术领域主要技术分支的专利分布。专利量较多的技术分支,创新热度相对较高,当前技术领域的空白点可能是潜在机会。
分类号
定义
专利数量
G03F7/20
.曝光及其设备(复制用照相印制设备入G03B27/00)[2006.01]
5011
G03F9/00
原版、蒙片、片框、照片、图纹表面的对准或定位,例如自动地(G03F7/22优先;照相蒙片的制备入G03F1/00;在复制用的照相印片设备中的入G03B27/00)[2006.01]
880
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺 ;图纹面照相制版用的材料,如：含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备(用于特殊工艺的光致抗蚀剂结构见相关的位置,例如,B44c,H01L,例如,H01L21/00,H05K)[2006.01]
479
H01L21/027
..未在H01L21/18或H01L21/34组中包含的为进—步的光刻工艺在半导体之上制作掩膜[2006.0
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