半导体制造环境控制系统（ECS）系列：洁净度控制系统_（16）.粒子源识别与排除.docxVIP

半导体制造环境控制系统（ECS）系列：洁净度控制系统_（16）.粒子源识别与排除.docx

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粒子源识别与排除

在半导体制造过程中，洁净度控制是确保产品良率和性能的关键环节。粒子源识别与排除是洁净度控制的重要组成部分，旨在通过系统的识别和排除工艺环境中的各种粒子，以减少对半导体器件的影响。本节将详细介绍粒子源的识别方法、排除技术以及相关的软件控制系统。

粒子源识别

1.粒子的分类与来源

在半导体制造环境中，粒子可以分为以下几类：

有机粒子：来自操作人员、设备润滑剂、化学品等。

无机粒子：来自设备磨损、环境灰尘等。

生物粒子：来自空气中的微生物、操作人员的皮肤细胞等。

识别这些粒子的来源是排除它们的第一步。以下是一些常见的粒子来源：

操作人员：人

该用户很懒，什么也没介绍

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