半导体制造环境控制系统（ECS）系列：湿度控制系统_8.湿度控制技术在不同半导体工艺中的应用.docxVIP

半导体制造环境控制系统（ECS）系列：湿度控制系统_8.湿度控制技术在不同半导体工艺中的应用.docx

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8.湿度控制技术在不同半导体工艺中的应用

8.1光刻工艺中的湿度控制

光刻工艺是半导体制造中最为关键的步骤之一，用于将电路图案精确地转移到硅片上。湿度控制在光刻工艺中起着至关重要的作用，因为湿度的变化会直接影响光刻胶的性能和最终的图案质量。以下是光刻工艺中湿度控制的详细原理和应用：

8.1.1光刻胶的湿度敏感性

光刻胶是一种对光敏感的化学材料，用于在硅片上形成电路图案。光刻胶在曝光和显影过程中，其性能受到湿度的显著影响。具体来说：

光刻胶的粘度：湿度增加会导致光刻胶的粘度降低，这可能会影响光刻胶的均匀涂布。粘度过低可能会导致光刻胶在硅片上的分布不均

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