石墨烯传感器及其制作方法和触控显示装置.pdfVIP

(19)中华人民共和国国家知识产权局

(12)发明专利说明书

(10)申请公布号CN104536614A

(43)申请公布日2015.04.22

(21)申请号CN201510015480.3

(22)申请日2015.01.12

(71)申请人京东方科技集团股份有限公司

地址100015北京市朝阳区酒仙桥路10号

(72)发明人邸云萍刘震

(74)专利代理机构北京路浩知识产权代理有限公司

代理人李相雨

(51)Int.CI

G06F3/041

权利要求说明书说明书幅图

(54)发明名称

石墨烯传感器及其制作方法和触控

显示装置

(57)摘要

本发明提供了一种制作石墨烯触摸

传感器的方法，包括：在衬底上形成石墨

烯层；在所述石墨烯层上形成金属层；在

所述金属层上涂覆光刻胶；采用灰阶掩膜

版对所述光刻胶进行曝光，显影后形成光

刻胶完全去除区域、光刻胶部分保留区域

和光刻胶完全保留区域；去除所述光刻胶

完全去除区域的金属层和石墨烯层；去除

所述光刻胶部分保留区域的金属层；对所

述光刻胶部分保留区域的石墨烯层涂覆保

护膜；剥离剩余的光刻胶。本发明还提供

了采用上述制作方法得到的石墨烯传感器

及包括石墨烯传感器的触控显示装置。本

发明避免了光刻工艺中碱性显影液和碱性

剥离液接触石墨烯薄膜导致其导电性变差

的问题，提高了良率，降低了成本。

法律状态

法律状态公告日法律状态信息法律状态

权利要求说明书

1.一种制作石墨烯触摸传感器的方法，其特征在于，所述方法包

括：

在衬底上形成石墨烯层；

在所述石墨烯层上形成金属层；

在所述金属层上涂覆光刻胶；

采用灰阶掩膜版对所述光刻胶进行曝光，显影后形成光刻胶完全

去除区域、光刻胶部分保留区域和光刻胶完全保留区域；

去除所述光刻胶完全去除区域的金属层和石墨烯层；

去除所述光刻胶部分保留区域的金属层；

对所述光刻胶部分保留区域的石墨烯层涂覆保护膜；

剥离剩余的光刻胶。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述光刻胶为正性

光刻胶，曝光时所述光刻胶完全去除区域的光刻胶受到光照而所述光

刻胶完全保留区域的光刻胶不受到光照。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述光刻胶为负性

光刻胶，曝光时所述光刻胶完全保留区域的光刻胶受到光照而所述光

刻胶完全去除区域的光刻胶不受到光照。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述去除所述光刻

胶完全去除区域的金属层包括：采用酸性溶液湿法刻蚀所述光刻胶完

全去除区域的金属层。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述去除所述光刻

胶完全去除区域的石墨烯层包括：干法刻蚀所述光刻胶完全去除区域

的石墨烯层，并同时灰化所述光刻胶部分保留区域的光刻胶。

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述去除所述光刻

胶部分保留区域的金属层包括：采用酸性溶液湿法刻蚀所述光刻胶部

分保留区域的金属层。

7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述保护膜的材料

为树脂。

8.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述剥离剩余的光

刻胶包括：采用碱性剥离液剥离剩余的光刻胶。

9.一种采用权利要求1-8任一项所述方法制成的石墨烯传感器，

其特征在于，包括：衬底，形成在所述衬底上的石墨烯图案，以及形

成在所述石墨烯图案上的金属引线。

10.一种触控显示装置，其特征在于，包括权利要求9所述的石

墨烯传感器。

说明书