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第一章测试
1.跟数字集成电路设计一样,目前高性能模拟集成电路的设计已经能自动完成。
A:对
B:错
答案:B
2.模拟电路许多效应的建模和仿真仍然存在问题,模拟设计需要设计者利用经
验和直觉来分析仿真结果
A:对
B:错
答案:A
3.模拟设计涉及到在速度、功耗、增益、精度、电源电压等多种因素间进行折
衷
A:错
B:对
答案:B
4.CMOS电路已成为当今SOC设计的主流制造技术。
A:错
B:对
答案:B
5.MOSFET的特征尺寸越来越小,本征速度越来越快(已可与双极器件相比
较),现在几GHz~几十GHz的CMOS模拟集成电路已经可批量生产。
A:错
B:对
答案:B
6.相对于数字电路来说,模拟集成电路的设计更加基础,更加灵活。
A:错
B:对
答案:B
7.片上系统,又称SOC,其英文全称是:
A:SystemonChip
B:SystemOperationsCenter
C:Systemofcomputer
D:Separationofconcerns
答案:A
8.互补金属氧化物半导体,英文简称CMOS,其英文全称为:
A:ComplementaryMetalOxideSystem
B:ComplementaryMachineOfSemiconductor
C:ComplementaryMetalOxideSemiconductor
D:CargoMachineOfSemiconductor
答案:C
9.模拟数字转换器,英文简称ADC,英文全称为:
A:AmbulancetoDestinationConverter
B:Analog-to-DestinationConverter
C:Analog-to-DigitalConverter
D:AmbulancetoDigitalConverter
答案:C
第二章测试
1.MOS器件的源端和漏端不可以共用,不可以互换。
A:对
B:错
答案:B
2.如果一个电路的最高电压是,最低电压是,那么NMOS器件的衬底应该接。
A:错
B:对
答案:A
3.一般MOS器件的源漏是对称的,这告诉我们要根据实际集成电路的情况来
判断电路的源极和漏极。
A:错
B:对
答案:B
4.下列关于MOS版图说法不正确的是()
A:版图中栅极的接触孔可以开在沟道区里
B:栅极的接触孔应该开在沟道区外
C:版图中沟道长度L的最小值由工艺决定
D:源结和漏结的一个尺寸等于W,另外一个尺寸要满足接触孔的需要,并
且要满足设计规则
答案:A
5.下列关于阈值电压的说法,不正确的是()
A:在器件制造过程中,可通过向沟道区注入杂质来调整阈值电压
B:若,则NMOS器件关断
C:NFET的阈值电压定义为当界面的电子浓度等于p型衬底的多子浓度时的
栅源电压
D:当时,NMOS器件导通
答案:B
6.下列关于NMOS器件的伏安特性说法正确的是()
A:当时,NMOS器件工作在截止区
B:当,时,NMOS器件工作在饱和区
C:当,并且NMOS器件工作在线性区
D:当时,且时,NMOS器件工作在深线性区
答案:ABC
7.下列对器件尺寸参数描述正确的有()
A:tox是器件栅氧化层的厚度,由工艺决定
B:L是器件的沟道长度,W是器件的宽度
C:一般所说的90nm工艺,其中的90nm
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