JJF(鄂) 112-2024 氧化层膜厚标准样片校准规范.docx

湖北省地方计量技术规范JJF(鄂)112—2024

氧化层膜厚标准样片校准规范

OxideFilmThicknessStandardSampleCalibrationSpecification

2024-05-14发布2024-09-01实施

湖北省市场监督管理局发布

JJF（鄂）112—2024

氧化层膜厚标准样片校准规范

OxideFilmThicknessStandardSampleCalibrationSpecification

归口单位：湖北省市场监督管理局

主要起草单位：中国船舶集团有限公司第七〇九研究所武汉大学

JJF（鄂）112—2024

本规范主要起草人：

罗锦晖（中国船舶集团有限公司第七〇九研究所）

薄涛（中国船舶集团有限公司第七〇九研究所）

熊瑊（中国船舶集团有限公司第七〇九研究所）

梁康（武汉大学）

张骋（中国船舶集团有限公司第七〇九研究所）沈威（武汉大学）

丁超（中国船舶集团有限公司第七〇九研究所）郑锋（中国船舶集团有限公司第七〇九研究所）

I

目录

引言 （II）

1范围 （1）

2引用文件 （1）

3术语和计量单位 （1）

3.1膜厚标准样片 （1）

3.2标准样片 （1）

3.3薄膜厚度 （1）

4概述 （1）

4.1原理 （1）

4.2用途 （1）

5计量特性 （2）

5.1标准样片厚度的测量范围 （2）

5.2标准样片的厚度标称值 （2）

5.3标准样片应具备的参数及性能要求 （2）

6校准条件 （2）

6.1环境条件 （2）

6.2校准用设备 （2）

7校准项目和校准方法 （2）

7.1校准项目 （2）

7.2校准方法 （3）

8校准结果的处理 （3）

9复校时间间隔 （4）

附录A （5）

附录B （6）

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II

引言

本规范的编制依据JJF1071-2010《国家计量校准规范编写规则》、JJF1001-2011《通用计量术语及定义》、JJF1059.1-2012《测量不确定度评定与表示》编制。

本规范为首次发布。

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1

氧化层膜厚标准样片校准规范

1范围

本规范规定了厚度在10nm~1000nm之间的氧化层膜厚标准样片的校准。

2引用文件

本规范引用了下列文件：T-604纳米几何量标准样板测试方法GB/T39516-2020微纳米标准样板（几何量）

凡是注日期的引用文件，仅注日期的版本适用于本规范；凡是不注日期的引用文件，其最新版本（包括所有的修改单）适用本规范。

3术语和计量单位

JJF1005界定的下列术语和定义适用于本规范。

3.1膜厚标准样片filmthicknessstandardsample

具有膜厚特征结构的，可用于微纳米几何量测量的标准样片。

3.2标准样片standardsample

又称标准样板，具有典型特征的，提供一个或多个标准值的实物样片。

3.3薄膜厚度filmthickness

由基底表面和生长层薄膜表面所确定的厚度量值。注：膜厚示意图见图1所示。

生长层薄膜

基底

图1膜厚示意图

薄膜厚度(d)

4概述

4.1原理

膜厚标准样片（以下简称标准样片）是针对集成电路工艺参数测量设备，通过复现集成电路关键尺寸量值，通过椭偏仪进行测量，在实际工作状态下对椭偏仪完成校准。

4.2用途

标准样片是具备一个或多个典型值的专用标准样品，通过校准后主要用于椭偏仪的校准、实验室比对和能力验证等。

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2

5计量特性

5.1标准样片厚度的测量范围

厚度的测量范围为10nm~1000nm。

5.2标准样片的厚度标称值

标准样片的厚度为离散值，具体值依据标准样片的型号而定。标准样片的计量特性见下表。

表1标准样片计量特性

厚度标称值

最大允许误差

10nm

±1nm

20nm

±1nm

50nm

±2nm

100nm

±3nm

200nm

±6nm

500nm

±15nm

1000nm

±30nm

注：标准样片的标准值和测量不确定度以最