半导体工艺之PVA刷擦洗 聚VA刷摩擦分析.pdfVIP

天将降大任于斯人也，必先苦其心志，劳其筋骨，饿其体肤，空乏其身，行拂乱其所为。——《孟子》

半导体工艺之PVA刷擦洗聚VA

刷摩擦分析

引言

本文简要综述了所提出的清洗机制。然后介绍了聚VA刷摩擦分析结果。在摩擦

分析中，刷的粘弹性行为、平板的表面润湿性以及刷的变形是重要的。此外，

我们还介绍了PVA电刷和接触面之间真实接触面积的可视化结果。在半导体器

件制造过程中，这次的专题“清洗与净化”是一个非常重要的事项。基本上半

导体工厂都是洁净室，各种工艺都是在极度受控的环境下使用的。

实验

用PVA刷摩擦表面的清洗机构并不那么简单。那是因为使含有非常多液体的刷

子在表面移动，因此提出了如图1所示的各种清洗模型。用液体和固体去除表

面存在的粒子，为正混相流。

图1粒子移动模型

另外，在这样的干洗中，据说粒子的除去性会根据进行洗涤的高分子（洗涤工

具）、要除去的粒子、以及被洗涤物表面各自之间的分子间力的大小的不同、

该高分子的形状而发生变化。例如对附着有二氧化硅粒子的PMMA平面（被清

洗物）进行清洗。面向壁虎自清洁机制的阐明，报道了活跃的研究成果“3-

7”O在利用模拟它们的高分子进行干洗（不使用液体的干燥状态下的粒子除

去）中，图2中显示。

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图2加载-拖动-卸载运动中的干清洁

图3显示的是利用测压元件在板上压缩PVA电刷时的垂直力FX和变形的关系。

压入以应变进行0.1次，压入后维持其变形30秒钟，然后重复进一步压入的

动作。

图3P的常规和条纹关系

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图4用不同类型的PVA刷进行了屏蔽碰撞后压缩，与其碰撞速度v发生了表

示了与垂直力Fv的关系。如图所示，垂直力随着谏度的增加急剧增加，根据

条件的不同，显示出了比Fig.3所示的准静态压缩时大近10倍的值。另外，

其上升量强烈依赖于所含水移动的难易程度。由于PVA刷一般由模具制成，因

此表面存在被称为表层的气孔率较小的层，水难以通过该层。因此，用这种层

复盖的类型a刷显示出较高的垂直力，用水难以排出但能够移动的类型c刷

显示出中间程度的值，而用水容易从没有表层的部分排出的类型b刷则没有

观察到很高的垂直力“91。这样，通过碰撞可以产生较高的垂直载荷。

类型a

移动操作器

图4压缩速度von正规态度的效果Fw

图4压缩速度V对正向力FN的影响。(a)实验设置和PVA电刷，(b)FN和V的

关系。PVA电刷的折动特性：对象物表面润湿性的影响在半导体制造工序中使

用的PVA刷中，有被称为辐刷，复盖整个晶片，一边在水平轴上旋转一边使用

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的刷，也有薄板和块形状的刷，根据情况，有时在铅直轴上旋转一边使用。

其外观图如图5所示。

图5聚乙烯醇刷子

结果和讨论

关于PVA刷的擦洗清洗，着眼于其剪切力进行了介绍。根据我们的实验，PVA

电刷滑动时电刷与表面处于接触状态，剪切力因板的润湿性和电刷的变形状态

而有很大差异。另外，介绍了剪切力生成机构模型。近年来，人们强烈希望进

行非接触式洗涤。另一方面，也有一些清洗手法很难改变，比如广泛用于汽车、

飞机等的雨刷技术。通过PVA刷的擦洗清洁也与超