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磁控溅射仪器培训
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磁控溅射技术概述
磁控溅射仪器结构与组成
磁控溅射仪器操作方法与技巧
磁控溅射工艺参数设置与优化建议
磁控溅射仪器维护保养知识普及
磁控溅射实验设计与数据分析能力提升
CATALOGUE
01
磁控溅射技术概述
CHAPTER
磁控溅射原理
电子在电场作用下加速飞向基片，与氩原子碰撞产生氩离子和电子，氩离子在电场作用下轰击靶材，溅射出靶材原子沉积在基片上成膜。
溅射过程
关键参数
技术原理简介
溅射出的靶材原子具有一定能量，在基片上形成致密、均匀的薄膜，同时产生的二次电子在磁场作用下围绕靶面作圆周运动，提高电离效率和溅射速率。
溅射速率、薄膜厚度、附
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