北方华创国产半导体装备脊梁，打造平台型龙头.docx

内容目录

1、国产半导体设备龙头，业绩稳健增长 5

设备平台化布局，产品覆盖全面 5

高管产业经验丰富，股权激励彰显长期发展信心 6

2、半导体设备市场空间广阔，国产替代加速渗透 11

薄膜沉积设备：芯片制造三大核心设备之一 13

刻蚀设备：国内厂商产品覆盖度稳步提升 17

3、平台化布局持续推进，产品矩阵日益丰富 22

ICP领域竞争优势明确，拓展CCP领域布局 22

薄膜沉积设备产品矩阵日益完善，平台型龙头地位彰显 24

产业链协同布局，设备业务版图逐步完善 26

半导体设备品类及应用领域拓宽 26

真空镀膜设备再突破，打入氢能燃料电池市场 28

打造半导体零部件平台，产业链协同发展 30

4、盈利预测及投资建议 33

5、风险提示 35

图表目录

图表1：公司发展历程 5

图表2：公司股权结构 6

图表3：公司部分高管履历 6

图表4：公司股权激励行权业绩考核目标 7

图表5：公司营收情况 8

图表6：公司归母净利润情况 8

图表7：公司费率情况 8

图表8：公司毛利率及归母净利率情况 8

图表9：公司分产品营收（亿元） 9

图表10：公司分产品毛利率 9

图表11：公司研发费用情况（亿元） 9

图表12：公司合同负债及存货情况（亿元） 10

图表13：全球半导体设备市场规模及同比（亿美元） 11

图表14：分地区半导体设备销售额（十亿美元） 11

图表15：全球半导体设备细分 11

图表16：2013年到2023年半导体芯片前道设备年均增速 11

图表17：全球半导体晶圆产能（等效8英寸片，月产能） 12

图表18：半导体设备国产化率情况 13

图表19：ALD、CVD、PVD成膜效果示意图 14

图表20：薄膜沉积设备分类 14

图表21：薄膜沉积设备细分占比 15

图表22：工艺升级带动薄膜沉积工序数提升 15

图表23：ALD在多重曝光中的应用 15

图表24：NAND发展趋势 16

图表25：2023年薄膜沉积设备细分格局 16

图表26：刻蚀过程重点：移除不需要材料 17

图表27：刻蚀类别 18

图表28：按作用机理分各类刻蚀特征 18

图表29：按刻蚀材料分各类刻蚀特征 18

图表30：2022年干法刻蚀细分占比（百万美元） 19

图表31：电感耦合等离子体刻蚀反应腔 19

图表32：ICP等离子刻蚀机设备结构示意图 19

努表33：电容性等离子 刻蚀反应腔 20

努表34：2022年全球刻蚀机企业竞争格局 20

努表35：不 制程集成电路生产 需刻蚀工序次数 21

努表36：10纳米多重模板工艺原理，涉及更多次刻蚀 21

努表37：存储器件从2D到3D结构的转变使等离子 刻蚀成为最关键的加工步骤 21

努表38：公 AccuraLX设备 22

努表39：公 PSEV300设备 23

努表40：公 ACEi300去胶机设备 24

努表41：公 ScalerHK430设备 25

努表42：公 Cygnus系列设备 25

努表43：浅沟槽绝缘介质 充工艺 26

努表44：北方华创立式炉ALD设备 27

努表45：北方华创IC领域部分清洗设备 28

努表46：北方华创RRAM设备解决方案 28

努表47：北方华创eMeridianRR-M系列磁控溅射卷绕镀膜设备 29

努表48：GISETCH气 离子刻蚀去除工件表面氧化层示意努 30

努表49：公 电子元器件营收及 比（亿元） 31

努表50：华丞电子部分零部件产品 32

努表51：北方华创分业务收入毛利拆分 33

努表52：可比公 估值 34

1、国产半导体设备龙头，业绩稳健增长

设备平台化布局，产品覆盖全面

二十余载耕耘，国产设备中军。北方华创成立于2001年9月，主营半导体装备及精密电子元器件业务，并于2010年在深圳证券交易所上市。2016年，公司实现与北方微电子的战略重组，成为中国具备较大规模、丰富的产品体系、多领域高端半导体工艺设备

供应商，并成功引进国家集成电路产业基金、京国瑞基金等战略投资者。2018年，北方华创收购美国AkrionSystemsLLC公司，进一步丰富了高端集成电路设备产品线，2022年销售收入首次突破百亿元。

图表1：公司发展历程

司官网，

北方华创主要业务为电子工艺装备和电子元器件。北方华创在高端电子工艺装备及精密电子元器件两大主业板块持续保持国内领先地位。电子工