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二硅化钼涂层制备技术研究进展

目录

二硅化钼涂层制备技术研究进展（1）．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．4

内容概述．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．4

二硅化钼的概述．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．4

2.1二硅化钼的基本性质．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．5

2.2二硅化钼的应用领域．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．6

二硅化钼涂层的制备方法．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．7

3.1湿法沉积法．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．7

3.1.1化学气相沉积(CVD)法．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．9

3.1.2电化学沉积法．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．10

3.2干法沉积法．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．11

3.2.1物理气相沉积(PVD)法．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．12

3.2.2其他干法沉积方法．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．13

二硅化钼涂层的性能研究．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．15

4.1层状结构对涂层性能的影响．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．16

4.2表面粗糙度和形貌对涂层性能的影响．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．17

4.3耐蚀性、耐热性和抗氧化性等性能测试．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．18

影响二硅化钼涂层性能的因素分析．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．19

5.1材料成分及配比．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．20

5.2制备条件．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．21

5.3使用环境因素．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．22

国内外研究进展综述．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．23

6.1国内研究现状．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．24

6.2国外研究现状．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．25

6.3各国的研究热点和挑战．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．26

二硅化钼涂层的应用前景展望．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．28

7.1新材料在电子、能源、医疗等领域的发展趋势．．．．．．．．．．．．．．28

7.2基于二硅化钼涂层的新应用探索．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．30

结论与建议．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．31

8.1主要结论．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．32

8.2对未来研究工作的建议．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．33

二硅化钼涂层制备技术研究进展（2）．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．34

内容综述．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．34

1.1二硅化钼涂层的研究背景．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．35

1.2二硅化钼涂层的应用领域．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．36

1.3研究意义与目标．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．37

二硅化钼涂层的特性．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．38

2.1物理化学性质．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．38

2.2机械性能．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．40

2.3耐腐蚀性能．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．