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《切花菊设施生产技术规程》DB21T 2133—2025.docxVIP

《切花菊设施生产技术规程》DB21T 2133—2025.docx

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ICS65.020.20

CCSB62

21

辽 宁 省 地 方 标 准

DB21/T2133—2025

代替DB21/T2133-2013

切花菊设施生产技术规程

ProductionStandardofCutChrysanthemuminGreenhouse

2025-02-28发布 2025-03-28实施

辽宁省市场监督管理局??发布

DB21/T2133—2025

前 言

本文件按照GB/T1.1—2020《标准化工作导则第1部分:标准化文件的结构和起草规则》的规定起草。

本文件代替DB21/T2133-2013《切花菊设施生产技术规程》,与DB21/T2133-2013相比,除结构性调整和编辑性改动外,主要技术变化如下:

a)增加了母株的选择标准(见4.1);

b)更改了栽培基质(见5.2,2013年版的4.3);

c)增加了定植时基肥的使用种类(见6.1.2);

d)更改了定植时的密度与方法(见6.2,2013年版的5.3.7);

e)更改了定植后的肥水管理(见7.3,2013年版的5.4.1);

f)增加了摘心抹芽、抹蕾的时间并规范了操作步骤(见7.4.1、7.4.2,2013年版的3.4.3);

g)更改了病虫害防治的方法(见8.3,2013年版的6.2)。

请注意本文件的某些内容可能涉及专利。本文件的发布机构不承担识别专利的责任。

本文件由辽宁省农业农村厅提出并归口。

本文件起草单位:沈阳农业大学、辽宁省农业科学院。

本文件主要起草人:毛洪玉、孙红梅、赵兴华、陈琪、刘迪、张晓波、岳玲、王琳、吴海红、范馨月、梁佳星、冯秀丽、李丹、侯忠。

本文件及其所代替文件的历次版本发布情况为:

——2013年首次发布为DB21/T2133-2013;

——本次为第一次修订。

本文件发布实施后,任何单位和个人如有问题和意见建议,均可以通过来电和来函等方式进行反馈,我们将及时答复并认真处理,根据实际情况依法进行评估及复审。

归口管理部门联系方式:辽宁省农业农村厅(沈阳市和平区太原北街2号),联系电话:024

文件起草单位联系方式:沈阳农业大学(沈阳市沈河区东陵路120号),联系电话:024

I

DB21/T2133—2025

切花菊设施生产技术规程

1 范围

本文件规定了切花菊设施生产的母株培养、扦插繁殖等技术要求。

本文件适用于辽宁地区塑料大棚、温室、冷棚等设施条件下的切花菊生产。

2 规范性引用文件

下列文件中的内容通过文中的规范性引用而构成本文件必不可少的条款。其中,注日期的引用文件,仅该日期对应的版本适用于本文件;不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改单)适用于本文件。

GB/T8321(所有部分)农药合理使用准则

GB/T23897切花产品采后处理技术规程

NY/T496 肥料合理使用准则

NY/T1276 农药安全使用规范总则

术语和定义

本文件没有需要界定的术语和定义。

母株培养

选择

选择花茎坚实粗壮、花叶无病无虫、生长状态良好的扦插苗作为扦插母株。母株3a~5a需要进行更新,且第一次使用时需要进行低温驯化。

定植时间与数量

根据市场需求按照出花时间提前5个月左右进行母株定植,定植母株数量按照所需种苗数的1/8确定。

5 扦插繁殖

苗床准备

分畦做床,苗床为梯形,每畦宽90cm,长600cm;每畦上分为三垄,垄与垄之间间隔20cm;每垄上两行,行距10cm,一畦共6行,垄高10cm~15cm。步道宽40cm~50cm。在进行插穗扦插之前,先在插床上充分喷水。旧土扦插,应消毒后再使用。

基质选择

1

DB21/T2133—2025

选择富含腐殖质疏松丰富、排水良好、不含有害物质、颗粒均匀适中的优质沙壤土作为基质,一般pH在6.0~7.0之间为宜。

插穗选择

选择母株上生长出的无病斑、无虫口、无破伤、无冻害、生长势强、无老化现象的脚芽作为插穗,

插穗长8cm~10cm,具有3个~5个芽,上端剪口距芽点0.2cm~0.3cm,下端剪口距芽点0.2cm~0.3cm。

插穗处理

去除插穗下部的叶片,上部留有2片~3片功能叶。将插穗放进清水中浸泡0.5h,然后捞出放置阴凉处,准备扦插。

插穗时间

扦插时间一般集中在1月~4月,也可以根据市场需求,调节相应的扦插时间。

扦插

扦插前在苗床上充分喷水,如果土壤较松软,插穗可直接插入土壤中,如果土壤条件较差或石子较多,可使用1cm~1.5cm宽的竹签配合,进行扦插。按照株行距5cm×5cm斜插或直插在苗床上,插穗入

土1/3~2/3并将土按压。

扦插后管理

扦插完成后立即浇足水,覆盖白色地膜进行保湿。为了防止膜下温度过

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