柔性压印光刻与基于平面透镜的直写光刻技术：原理应用及比较研究.docx

柔性压印光刻与基于平面透镜的直写光刻技术：原理、应用及比较研究

一、引言

1.1研究背景与意义

在现代科技飞速发展的进程中，微纳制造技术作为支撑信息产业、推动前沿研究与产业创新的关键力量，正发挥着日益重要的作用。而光刻技术，作为微纳制造领域的核心技术，犹如一把精准的“雕刻刀”，在微纳尺度上实现了精细图案的转移与构建，为半导体、显示等众多产业的发展奠定了坚实基础。

从半导体产业来看，芯片作为现代电子产品的核心，其性能与集成度的不断提升，对光刻技术的分辨率和制程精度提出了严苛要求。光刻技术通过高精度的曝光和刻蚀过程，将设计图案精细地复制到硅片上，使得半导体器件得以不断微型化、集成化。例如，在智