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《高深宽比微结构形貌参数显微干涉测量方法》征求意见稿编制说明

《高深宽比微结构形貌参数显微干涉测量方法》

征求意见稿编制说明

一、工作简况

1.1任务来源

国家标准《高深宽比微结构形貌参数显微干涉测量方法》来源于2024年7月

29日国标委发（2024）32号“国家标准化管理委员会关于下达2024年第五批推荐

性国家标准计划及相关标准外文版计划的通知”，属于国家标准制定，计划号为T-491，归口单位为全国光电测量标准化技术委员会（SAC/TC487）

与全国微机电技术标准化技术委员会（SAC/TC336），项目周期为18个月。

关于项目名称变更的说明：本项目立项时，只考虑了硅基高深宽比结构具

有的技术特征及其相应的近红外显微干涉形态参数测量验证方法，但高深宽比

微结构器件的材料透射光谱不止限于近红外波段，根据专家意见，取消了测量

方法中近红外工作波段的限制，不止限于近红外显微干涉；同时，显微干涉方

法是获取结构三维形貌与形态参数的特征方法，因此，名称中保留了显微干涉

的特征描述。为了扩大光学显微干涉无损测量方法的适用范围，申请将项目名

称《高深宽比微结构形态参数近红外显微干涉测量方法》调整为《高深宽比微

结构形貌参数显微干涉测量方法》。英文名称由《Near-infraredmicroscopic

interferometrymethodformorphologicalparametersofhighaspectratio

microstructures》调整为《Microscopicinterferometrymeasurementmethodof

topographicparametersforhigh-aspect-ratiomicrostructures》。标准起草组于2025

年1月2日，通过SAC/TC487秘书处向中国科学院科技基础能力局提交“关于调整

《高深宽比微结构形态参数近红外显微干涉测量方法》项目名称的申请”，详见

附件一。2025年3月15日获得中国科学院科技基础能力局批准文件，详见附件二。

国标委系统已完成项目名称调整。

关于归口管理单位调整的说明：本项目测量方法的对象高深宽比微结构，

是微机电传感器件的通用结构型式之一，测量方法又属于典型的光电测量技术

领域，解决光电测量技术与微机电技术两种技术领域的技术交叉问题。经全国

光电测量标准化技术委员会（TC487）与全国微机电技术标准化技术委员会

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《高深宽比微结构形貌参数显微干涉测量方法》征求意见稿编制说明

（TC336）协商，双方同意项目号T-491的《高深宽比微结构形貌参

数显微干涉测量方法》国家标准，由全国光电测量标准化技术委员会（TC487）

与全国微机电技术标准化技术委员会（TC336）双归口管理，全国光电测量标

准化技术委员会（TC487）为第一归口单位。2025年3月24日双方标委会联合归

口管理文件，详见附件三。

1.2主要参加单位和工作组成员及其所做的工作

2024年7月，《高深宽比微结构形貌参数显微干涉测量方法》国家标准的任

务下达后，在全国光电测量标准化技术委员会组织下，标准主起草单位南京理

工大学联合上海市计量测试技术研究院、中国电子科技集团公司第十三研究所、

中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所、苏州工业园区纳米产业技术研究

院有限公司、中国科学院微电子研究所、中国计量科学研究院、中国科学院空

天信息创新研究院、齐之明光电智能科技（苏州）有限公司、南京智群光电技

术有限公司、苏州热工研究院有限公司、浙江大学苏州工业技术研究院和无锡

华润上华科技有限公司等单位，组织了本标准的起草工作。起草单位及工作分

配详见表1。起草人员及工作分配详见表2。

表1起草单位及承担工作

序号起草单位承担工作

1南京理工大学主要起草，承担了本标准的主要起草任务

上海市计量测试技术研

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