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羟基氧化钴纳米片飞秒激光液相烧蚀技术及抗氧化性能研究应用探索

羟基氧化钴纳米片飞秒激光液相烧蚀技术及抗氧化性能研究应用探索（1）

研究背景与意义．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．4

1.1羟基氧化钴纳米片的研究现状．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．5

1.2飞秒激光液相烧蚀技术的应用前景．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．6

1.3抗氧化性能研究的重要性．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．7

羟基氧化钴纳米片的制备方法．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．8

2.1飞秒激光液相烧蚀技术的原理．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．10

2.2制备过程中的关键参数优化．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．11

2.3纳米片形貌与尺寸的表征．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．12

羟基氧化钴纳米片的表征与分析．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．13

3.1结构与组成分析．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．14

3.2表面形貌与元素分布．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．15

3.3光学性能研究．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．16

飞秒激光液相烧蚀技术的实验研究．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．17

4.1激光参数对烧蚀过程的影响．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．18

4.2液相介质对纳米片形成的影响．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．20

4.3烧蚀效率与产物的控制．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．21

羟基氧化钴纳米片的抗氧化性能研究．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．22

5.1抗氧化机理探讨．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．23

5.2抗氧化性能的测试方法．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．24

5.3抗氧化性能的影响因素分析．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．25

羟基氧化钴纳米片的应用探索．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．26

6.1在催化领域的应用．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．27

6.2在能源领域的应用．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．28

6.3在生物医学领域的应用．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．30

结论与展望．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．31

7.1研究成果总结．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．32

7.2存在的问题与挑战．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．33

7.3未来研究方向与建议．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．34

羟基氧化钴纳米片飞秒激光液相烧蚀技术及抗氧化性能研究应用探索（2）

内容综述．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．35

1.1研究背景．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．36

1.2研究意义．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．37

1.3国内外研究现状．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．38

羟基氧化钴纳米片制备技术．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．40

2.1纳米片制备原理．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．40

2.2液相烧蚀法简介．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．42

2.3飞秒激光液相烧蚀技术原理．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．43

羟基氧化钴纳米片结构表征．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．44

3.1纳米片形貌分析．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．

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